Автори | Д.М. Заячук1, В.Є. Слинько2, А. Чік3 |
Афіліація | 1 Національний університет “Львівська політехніка”, вул. С. Бандери, 12, 79013 Львів, Україна 2 Чернівецьке відділення Інституту Проблем Матеріалознавства НАНУ, вул. І. Вільде, 5, 58001 Чернівці, Україна 3 Інститут Ядерних Досліджень Академії Наук Угорщини (ATOMKI), H-4026 Дебрецен, Bem ter 18/c, Угорщина |
Е-mail | zayachuk@polynet.lviv.ua |
Випуск | Том 9, Рік 2017, Номер 5 |
Дати | Одержано 18.07.2017, опубліковано online - 16.10.2017 |
Цитування | Д.М. Заячук, В.Є. Слинько, А. Чік, Ж. нано- електрон. фіз. 9 № 5, 05034 (2017) |
DOI | 10.21272/jnep.9(5).05034 |
PACS Number(s) | 81.70.Jb, 68.55.ag, 61.05. – a |
Ключові слова | Вторинна нейтральна мас-спектрометрія, Профілювання вглиб, PbTe (3) , Розпорошення, Переосадження. |
Анотація | Представлені особливості профілювання вглиб кристалів PbTe плазмою Ar енергії 350 еВ методом вторинної нейтральної масспектрометрії, що спричиняються умовами росту кристалів. Дослідження проведено на кристалах, вирощених з парової фази та з розплаву методом Бріджмена. Різні поверхні були розпорошені: поверхня природної огранки, що відповідає кристалографічній площині високої симетрії (100), природні бокові поверхні кристалічних зливків та поверхні, оброблені механічно підчас розрізання кристалів. На розпорошених поверхнях спостерігали зародкоутворення, ріст і повторне розпорошення масивів мікро- і наноскопічних поверхневих структур, переосаджених з розпорошених атомів Pb і Te. Встановлено, що ростові умови формування поверхонь кристалів PbTe дуже сильно впливають на процеси зародкоутворення і росту на них поверхневих мікро- і наноструктур в умовах неперервного бомбардування поверхні іонами Ar підчас профілювання кристалів вглиб. Показано, що це не перешкоджає належній оцінці складу досліджуваних об'єктів шляхом аналізу складу розпорошеної фази, якщо розпорошення проводити щонайменше 5-10 хвилин. |
Перелік цитувань |