Електричні характеристики та густина інтерфейсних станів в діоді Шотткі Au/n-InN/InP

Автори A.H. Khediri1,2, A. Talbi1 , M.A. Benamara1, Z. Benamara1
Приналежність

1Laboratoire de Microélectronique Appliquée, Université Djillali Liabès de Sidi Bel Abbès, 22000, Algeria

2Plateforme Technologique de Micro-fabrication, Centre de Développement des Technologies Avancées, Cité 20 août 1956, Baba Hassen, 16303 Algiers, Algeria

Е-mail abdelkrim.khediri@gmail.com
Випуск Том 13, Рік 2021, Номер 4
Дати Одержано 21 березня 2021; у відредагованій формі 04 серпня 2021; опубліковано online 20 серпня 2021
Посилання A.H. Khediri, A. Talbi, M.A. Benamara, Z. Benamara, Ж. нано- електрон. фіз. 13 № 4, 04002 (2021)
DOI https://doi.org/10.21272/jnep.13(4).04002
PACS Number(s) 85.30.Kk, 85.30.Hi
Ключові слова Висота бар'єру (4) , Вимірювання ВАХ, Фосфід індію (6) , Нітрид індію (3) , Густина інтерфейсних станів, Діоди Шотткі (3) .
Анотація

У роботі представлено електричне дослідження тонких плівок InN, розроблених шляхом нітрування підкладки InP (100). Зразки були отримані з використанням джерела тліючого розряду (GDS) в надвисокому вакуумі. Золотий (Au) контакт Шотткі був нанесений на верхню частину поверхні. Електричні характеристики структури Au/InN/n-InP були досліджені з використанням ВАХ та кривих ємність-напруга. З ВАХ при кімнатній температурі показано, що основним механізмом провідності є струм термоелектронної емісії. Значення коефіцієнта ідеальності діода 1,57 знаходять за допомогою аналітичних методів. Крім того, висота бар'єру пристрою оцінюється в 0,64 еВ. Це значення значно більше, ніж раніше повідомлене в літературі. Низький струм насичення та послідовний опір (Rs), рівні відповідно 12,3 мкА та 38 Ом, вказують на наявність шару InN. З кривих ємність-напруга при напрузі зворотного зміщення отримують вбудований потенціал та концентрацію іонізованого донора 0,83 В та 1,16 x 1017 см – 3 відповідно. Частотно-залежну ємність пояснюють наявністю інтерфейсних станів. На основі методу високих і низьких частот визначено середню густину інтерфейсних станів (Nss) рівну 5,6 x 1011 еВ – 1см – 2. Ці висновки свідчать про гарну пасивацію поверхні InP із використанням тонкої плівки InN.

Перелік посилань