Чисельне моделювання польового транзистора з каналом у вигляді нанородроту

Автори І.П. Бурик1 , А.О. Головня2 , І.М. Мартиненко2 , О.П. Ткач2, Л.В. Однодворець2
Приналежність

1Конотопський інститут Сумського державного університету, просп. Миру, 24, 41615 Kонотоп, Україна

2Сумський державний університет, вул. Римського-Корсакова, 2, 40007 Суми, Україна

Е-mail l.odnodvorets@aph.sumdu.edu.ua
Випуск Том 13, Рік 2021, Номер 4
Дати Одержано 02 липня 2021; у відредагованій формі 11 серпня 2021; опубліковано online 20 серпня 2021
Посилання І.П. Бурик, А.О. Головня, І.М. Мартиненко, та ін., Ж. нано- електрон. фіз. 13 № 4, 04030 (2021)
DOI https://doi.org/10.21272/jnep.13(4).04030
PACS Number(s) 85.60.Bt, 78.20.Bh, 73.61.Ga
Ключові слова Польовий транзистор з каналом на основі нанодроту, Моделювання (75) , Температурний коефіцієнт електричних параметрів.
Анотація

Робота базового функціонального елемента інтегральної схеми – польового транзистора заснована на дрейфі електронів та дірок у каналі. Із застосуванням розтягування-здавлювання кристалічної решітки кремнію Si, шляхом впровадження домішкових атомів, дещо зростає рухливість носіїв.  Разом з цим значний інтерес до нанодротів на основі твердого розчину Si(Ge)  як елементів для формування високоефективних каналів польових транзисторів обумовлює необхідність досліджень їх структурних, електричних та температурних характеристик. У роботі наведені результати числового моделювання коаксіальних Si-канальних транзисторних FET’s структур  із затвором Gate-all-around (GAA). Структура  транзистора n-типу GAA NW FET та його вольт-амперні характеристики були побудовані з використанням інструментів Silvaco TCAD. У рамках дифузійно-дрейфової моделі транспорту носіїв із врахуванням квантового потенціалу Бома отримані ефективні робочі параметри: допустимі значення порогової напруги, сили струму витоку та коефіцієнта Ion/Ioff. та їх залежності від температури. Отримано, що  величини порогової напруги Vt та допорогового розкиду SS залишаються майже без змін із зростанням температури в інтервалі від 280 до 400 К, що насамперед пов’язано з додатковим впливом квантових ефектів для заданих товщини каналу та концентрацій домішок. Поряд з цим  фіксується типове  спадання сили струму ввімкнення на 45.5 % та струму витоку на 46.4 % в заданому інтервалі температур. Для оцінки термічної стабільності досліджуваних транзисторних систем розраховані температурні коефіцієнти bVt, bSS, bIon and bIoff. Їх величини становили відповідно 8.63.10 – 5; – 0.53.10 – 5; – 3.87.10 – 3  and – 3.80.10 – 3 K – 1. Результати чисельного моделювання показали добре узгодження з експериментальними даними.

Перелік посилань