Особливості магнітоопору композитних матеріалів на основі Со та SiO

Автори I.M. Пазуха , В.В. Щоткін, О.В. Пилипенко , В.З. Микитин, Ю.О. Шкурдода
Приналежність

Сумський державний університет, вул. Рисмського-Корсакова 2, 40007 Суми, Україна

Е-mail iryna.pazukha@gmail.com
Випуск Том 13, Рік 2021, Номер 4
Дати Одержано 01 липня 2021; у відредагованій формі 06 серпня 2021; опубліковано online 20 серпня 2021
Посилання I.M. Пазуха, В.В. Щоткін, О.В. Пилипенко, та ін., Ж. нано- електрон. фіз. 13 № 4, 04035 (2021)
DOI https://doi.org/10.21272/jnep.13(4).04035
PACS Number(s) 68.37.Lp, 68.60.Dv, 81.15.Ef
Ключові слова Композитний матеріал (4) , Одночасна конденсація (2) , Феромагнітні частинки (2) , Діелектрична матриця, Магнітоопір (37) .
Анотація

Серія тонкоплівкових композитних матеріалів на основі Co та SiO була отримана методом одночасного електронно-променевого осадження з двох незалежних джерел. Концентрація атомів Со у тонкоплівковому зразку змінювалася у межах від 35 до 90 aт. %. Композиційний та елементний аналіз зразків визначався за допомогою скануючого електронного мікроскопу (Tescan VEGA3) з енергорозсіюючим рентгенівським (EDX) детектором (Oxford Instruments). Загальна товщина композитних матеріалів контролювалася за допомогою системи із двох незалежних кварцових резонаторів та становила 30 та 60 нм. Дослідження магніторезистивних властивостей було проведено для зразків у свіжосконденсованому стані. Згідно з отриманими даними поріг перколяції для системи на основі Co та SiO знаходиться в інтервалі концентрацій сСо = 60-70 ат. %. Із отриманих за кімнатної температури польових залежностей магнітоопору (МО) слідує, що електричний опір плівок зменшується при внесенні їх у магнітне поле (негативний магнітоопір). Реалізація негативного МО свідчить про те, що домінуючий ефект, який спостерігається, зумовлений спін-залежним тунелюванням електронів між феромагнітними наногранулами. Встановлено, що для свіжосконденсованих композитів на основі Co та SiOx товщиною d = 30-70 нм та за концентрації сСо = 40-60 ат. % реалізується ізотропний МО величиною 1.5-2.5 %. Максимум на концентраційних залежностях МО зміщується в область менших концентрацій Со при збільшенні товщини зразків.

Перелік посилань