Формування наносистеми In/InTe методом вторинного твердотільного змочування

Автори П.В. Галій1, Т.М. Ненчук1, А. Ціжевський2, П. Мазур2, О.В. Цветкова1 , В.І. Дзюба1, Т.Р. Макар1
Приналежність

1Львівський національний університет імені Івана Франка, вул. Драгоманова, 50, 79005 Львів, Україна

2Institute of Experimental Physics, University of Wroclaw, pl. Maxa Borna 9, 50-204 Wroclaw, Poland

Е-mail nenchuk@electronics.lnu.edu.ua
Випуск Том 13, Рік 2021, Номер 4
Дати Одержано 25 червня 2021; у відредагованій формі 10 серпня 2021; опубліковано online 20 серпня 2021
Посилання П.В. Галій, Т.М. Ненчук, А. Ціжевський, та ін., Ж. нано- електрон. фіз. 13 № 4, 04032 (2021)
DOI https://doi.org/10.21272/jnep.13(4).04032
PACS Number(s) 68.37.Ef, 68.37.Ps, 68.47.De, 68.47.Fg, 73.20.At, 68.35.bg, 81.65.Cf, 79.60. – i
Ключові слова Шаруваті халькогеніди, Самоорганізовані наноструктури, Вторинне твердотільне змочування, Скануючі тунельна мікроскопія/спектроскопія, Атомно-силова мікроскопія (16) , Х-променева фотоелектронна спектроскопія (3) , Дифракція повільних електронів (3) .
Анотація

Для формування наносистеми In/InTe застосовано метод вторинного твердотільного змочування як перспективний спосіб отримання наноструктур. Фазово-елементний склад та структурна досконалість вихідної поверхні InTe характеризувались методами Х-променевої фотоелектронної спектроскопії, дифракції повільних електронів та атомно-силової мікроскопії. Методом дифракційного Х-променевого структурного і фазового аналізів встановлено тетрагональну кристалічну структуру InTe типу TlSe (просторова група I4/mcm, параметри ґратки a ( 8,4414(6) Å, c ( 7,1333(5) Å). Дослідження за допомогою скануючої тунельної мікроскопії вихідної поверхні InTe (001), як такої, що використовується як упорядкований шаблон після термічного осадження індію, показують, що форма та розташування індукованих індієм наноструктур визначаються квадратною симетрією поверхневої ґратки, що визначається тетрагональною об'ємною ґраткою InTe. Встановлено утворення нанорозмірних 0D-структур в результаті процесу вторинного твердотільного змочування внаслідок нагрівання поверхні вище температури плавлення індію. Скануюча тунельна спектроскопія виявляє кореляцію між кінетикою покриття індієм та збільшенням на поверхні InTe (001) величини густини станів у забороненій зоні InTe.

Перелік посилань