Електронно-променева технологія в оптоелектронному приладобудуванні: високоякісні криволінійні поверхні та створення мікропрофілів різної геометричної форми

Автори І.В. Яценко1 , В.П. Маслов2, В.С. Антонюк3 , В.А. Ващенко1 , О.В. Кириченко4 , К.М. Яценко1
Приналежність

1Черкаський державний технологічний університет, бульв. Шевченка, 460, 18006 Черкаси, Україна

2Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьова, просп. Науки, 45, 02000 Київ, Україна

3Національний технічний університет України "Київський політехнічний інститут імені Ігоря Сікорського", просп. Перемоги, 37, 03056 Київ, Україна

4Черкаський інститут пожежної безпеки імені Героїв Чорнобиля Національного університету цивільного захисту України, вул. Онопрієнка, 8, 18034 Черкаси, Україна

Е-mail irina.yatsenko.79@ukr.net
Випуск Том 13, Рік 2021, Номер 4
Дати Одержано 29 жовтня 2020; у відредагованій формі 15 серпня 2021; опубліковано online 20 серпня 2021
Посилання І.В. Яценко, В.П. Маслов, В.С. Антонюк та ін., Ж. нано- електрон. фіз. 13 № 4, 04034 (2021)
DOI https://doi.org/10.21272/jnep.13(4).04034
PACS Number(s) 42.79.Bh
Ключові слова Оптико-електронні прилади (2) , Електронний промінь (6) , Оптичний елемент (3) , Оптимальне керування (2) .
Анотація

Розроблено метод обробки криволінійних поверхонь оптичних елементів та створення на них функціональних мікропрофілей різної геометричної форми за допомогою системи нерухомих одиничних електронних променів шляхом оптимізації технологічних параметрів установки (кількості променів, їх струмів, прискорюючихнапруг та відстаней до оброблюваних поверхонь), що дозволяє створювати різні мікрооптичні деталі для оптико-електронних приладів. В основу методу покладені реалізовані на практиці схеми розташування системи одиничних електронних променів, що діють на криволінійні поверхні оптичних елементів. Згідно розробленого метода задача реалізації вирішувалась за допомогою дискретно розташованих нерухомих джерел теплового впливу гаусівського типу з різними амплітудами (максимальні значення густини теплового впливу електронних променів) та коефіцієнтами зосередженості , що діють на оброблювані поверхні оптичних елементів. При цьому керування впливом таких джерел здійснюється автоматично з використанням мікропроцесорної техніки. Показано, що збільшуючи кількість електронних променів (до 50…70) можна отримати високу точність (відносна похибка до 10 – 4…10 – 5) відповідності заданим складним розподіленим тепловим впливам вздовж оброблюваних як плоских, так й криволінійних оптичних елементів, необхідних для створення функціональних мікропрофілей на їх поверхнях заданої геометричної форми. Нині внаслідок технічних труднощів, які вникають, неможливо здійснювати ефективне керування великою кількістю променів (більше 10…15) Однак, зменшуючи їх кількість (наприклад, до 5…7), можна реалізовувати вказані розподілені теплові впливи з прийнятною на практиці точністю (відносна похибка не перевищує 3…5 %).

Перелік посилань