Автори | Н.П. Клочко1 , К.С. Клєпікова1 , С.І. Петрушенко2 , А.В. Нікітін3, В.Р. Копач1 , І.В. Хрипунова1, Д.О. Жадан1 , С.В. Дукаров2 , В.М. Любов1 , А.Л. Хрипунова1 |
Афіліація |
1 Національний технічний університет «Харківський політехнічний інститут», вул. Кирпичова, 2, 61002 Харків, Україна 2 Харківський національний університет імені В.Н. Каразіна, пл. Свободи, 4, 61022 Харків, Україна 3 Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут», вул. Академічна, 1, 61108 Харків, Україна |
Е-mail | catherinakle@gmail.com |
Випуск | Том 11, Рік 2019, Номер 5 |
Дати | Одержано 07 травня 2019; у відредагованій формі 21 жовтня 2019; опубліковано online 25 жовтня 2019 |
Цитування | Н.П. Клочко, К.С. Клєпікова, С.І. Петрушенко, та ін., Ж. нано- електрон. фіз. 11 № 5, 05002 (2019) |
DOI | https://doi.org/10.21272/jnep.11(5).05002 |
PACS Number(s) | 81.40.Wx |
Ключові слова | Тліючий розряд (2) , Оксид цинку (20) , Імпульсне електроосадження (4) , SILAR (6) , Воднева плазмова обробка. |
Анотація |
У роботі ми досліджували вплив обробки в плазмі тліючого розряду Н2+ на шари ZnO, які були нанесені на покриті плівками легованого фтором оксиду олова (FTO) скляні підкладки шляхом низькотемпературного осадження з водних розчинів, а саме, методом імпульсного електрохімічного осадження і методом послідовної адсорбції і реакції іонних шарів (SILAR). Показано, що кристалічна структура, морфологія поверхні, хімічний склад і оптичні властивості після плазмової обробки зазнають деяких деструктивних змін через утворення кисневих вакансій Vo і пов'язаних з воднем дефектів, а також внаслідок того, що Н2+-плазма тліючого розряду здатна травити ZnO шляхом відновлення оксиду цинку і випаровування з поверхні Zn. Проте в цілому, наші дослідження продемонстрували досить добру стійкість шарів ZnO до радіаційного та хімічного впливів плазми при одержаній кожним зразком ZnO/FTO високій сумарній густині потоку Н2+ приблизно 8·1018см–2. |
Перелік цитувань |