Особливості низькотемпературного утворення GaAs для структур епітаксійних пристроїв

Автори С.І. Крюковський1, В. Аріков2, А.О. Воронко3, В.С. Антонюк3
Приналежність

1Науково-дослідна компанія «Електрон-Карат», вул. Стрийська, 202, 79031 Львів Україна

2Національний університет «Львівська політехніка», вул. С. Бандери, 12, 79013 Львів, Україна

3Національний технічний університет «Київський політехнічний інститут імені Ігоря Сікорського», пр. Перемоги, 37, 03056 Київ, Україна

Е-mail victor.antoniuk@gmail.com
Випуск Том 14, Рік 2022, Номер 2
Дати Одержано 18 лютого 2022; у відредагованій формі 16 квітня 2022; опубліковано online 29 квітня 2022
Посилання С.І. Крюковський, В. Аріков, А.О. Воронко, В.С. Антонюк, Ж. нано- електрон. фіз. 14 № 2, 02016 (2022)
DOI https://doi.org/10.21272/jnep.14(2).02016
PACS Number(s) 61.43Gt, 78.30Fs, 78.55m
Ключові слова Арсенід галію (7) , Рідкоземельний елемент, Профіль розподілу носіїв заряду, Інтерфейс (11) , Прилади терагерцового діапазону.
Анотація

В статті представлені результати по особливостях формування низькотемпературного арсеніду галію під впливом комплексного легування рідкісноземельним елементом ітербієм та алюмінієм. Методом CV-профілометрії досліджені електрофізичні властивості епітаксійних шарів, а структурні характеристики – з використанням XRD. Показано, що за певних оптимальних концентрацій ітербію (3,0-3,2·10 – 3 ат. %) та алюмінію (1·10 – 3 ат. %) можна отримувати структурно досконалі епітаксійні шари GaAs з низькою концентрацією носіїв, а модуляція швидкості зниження температури дозволяє отримати більш різку границю розділу шарів з різним рівнем легування. Такі шари можна використовувати в складі фотодіодних чи НВЧ структур. Встановлено, що збільшення концентрації ітербію в розплаві спричиняє погіршення структурних властивостей шарів, зумовлених генерацією додаткових дефектів, що може бути використано для створення оптоелектронних пристроїв терагерцового діапазону.

Перелік посилань