Автори | M. Faidzal Rasol1, Ainun T.1, Fatimah H.1, Zaharah J.1, Mastura S.Z.A.1, Rashidah A.1, Munawar A. Riyadi2 |
Афіліація |
1School of Electrical Engineering, Faculty of Engineering, Universiti Teknologi Malaysia, 81310 UTM, Johor Bahru, Malaysia 2Department of Electrical Engineering, Diponegoro University, Semarang, Indonesia |
Е-mail | |
Випуск | Том 14, Рік 2022, Номер 2 |
Дати | Одержано 16 лютого 2022; у відредагованій формі 19 квітня 2022; опубліковано online 29 квітня 2022 |
Цитування | M. Faidzal Rasol, Ainun T., Fatimah H., та ін., Ж. нано- електрон. фіз. 14 № 2, 02010 (2022) |
DOI | https://doi.org/10.21272/jnep.14(2).02010 |
PACS Number(s) | 85.30.Tv |
Ключові слова | Короткоканальні ефекти (5) , Квантовомеханічні ефекти, Удосконалений матеріал і структура. |
Анотація |
Починаючи з епохи Мура, для покращення електричних характеристик було введено використання передової архітектури пристроїв з наноматеріалів. У роботі повідомляється про дослідження характеристик довгоканального GaAs JGAA транзистора, включаючи квантово-механічний ефект. Для включення квантовомеханічного ефекту при проведенні аналізу використовується модель градієнта густини Пуассона. Тому радіус канала (Rchn), товщину оксиду (TOX) і концентрацію носіїв (Nd) змінювали для вивчення електричних характеристик пропонованого пристрою. За допомогою моделювання було виявлено, що струм включення (Ion) збільшується на 54 % при менших товщині оксиду та радіусу каналу. У роботі також висвітлюється недолік класичної моделі, в якій неможливо охопити квантовий ефект, де поточні відхилення показують 12 % різницю між класичною моделлю та квантовою моделлю. Наведені тут результати вказують на можливість використання JGAA транзистора для майбутніх додатків наноелектронних пристроїв. |
Перелік цитувань |