Автори | B.E. Umirzakov, I.R. Bekpulatov, I.Kh. Turapov, B.D. Igamov |
Афіліація |
Tashkent State Technical University, Tashkent 100095, Uzbekistan |
Е-mail | bekpulatov85@rambler.ru |
Випуск | Том 14, Рік 2022, Номер 2 |
Дати | Одержано 07 лютого 2022; у відредагованій формі 21 квітня 2022; опубліковано online 29 квітня 2022 |
Цитування | B.E. Umirzakov, I.R. Bekpulatov, I.Kh. Turapov, B.D. Igamov, Ж. нано- електрон. фіз. 14 № 2, 02026 (2022) |
DOI | https://doi.org/10.21272/jnep.14(2).02026 |
PACS Number(s) | 68.55.Ln, 73.40. – c |
Ключові слова | Електронні властивості (11) , Оже-електронна спектроскопія (2) , Іонна імплантація (6) , Наношар, Силіцид (6) , Гетеросистема. |
Анотація |
За допомогою методів ультрафіолетової фотоелектронної спектроскопії, спектроскопії поглинання світла та вторинних електронів було вперше досліджено вплив осадження атомів Cs товщиною 1 моношар на густину електронних станів у валентній зоні та зоні провідності, параметри енергетичної зони та квантовий вихід фотоелектронів. Встановлено, що при осадженні цезію на поверхню дисиліциду кобальту товщиною 1 моношар, значення Еg і положення максимумів густини станів валентних електронів практично не змінюються, робота виходу фотоелектронів зменшується до 3 еВ, а квантовий вихід фотоелектронів збільшується в 3 і більше разів. Після осадження Cs на поверхню CoSi2/Si(111) товщиною d 500 Å вихід вторинних електронів у вакуум збільшується, а початок спектру зміщується в бік менших енергій на ~ 2,4 еВ, тобто потенціальний бар'єр (спорідненість до електронів ) зменшується на 2,4 еВ. Зменшення Ф відбувається переважно за рахунок зменшення ширини зони провідності . У роботі вперше експериментально визначені положення максимумів густини станів вільних електронів у зоні провідності CoSi2. Показано, що максимуми розташовані при енергіях 0,8 та 1,9 еВ нижче рівня вакууму. |
Перелік цитувань |