Автори | M. Djerioui1, M. Hebali2 , M. Abboun Abid3 |
Афіліація |
1ENS Ouargla, 300000 Ouargla, Algeria 2Department of Electrotechnical, University Mustapha Stambouli of Mascara, 29000 Mascara, Algeria 3ENP Oran, B.P 1523 Oran El M’Naouar, 31000 Oran, Algeria |
Е-mail | djeriouimoh@gmail.com |
Випуск | Том 14, Рік 2022, Номер 5 |
Дати | Одержано 20 червня 2022; у відредагованій формі 24 жовтня 2022; опубліковано online 28 жовтня 2022 |
Цитування | M. Djerioui, M. Hebali, M. Abboun Abid, Ж. нано- електрон. фіз. 14 № 5, 05025 (2022) |
DOI | https://doi.org/10.21272/jnep.14(5).05025 |
PACS Number(s) | 85.30.De |
Ключові слова | Симетричний DG-SOI-MOSFET, Електрична характеристика, Провідність (94) , Мініатюризація (4) , Чисельний метод (2) . |
Анотація |
Пристрій SOI-MOSFET із подвійним затвором (DG) розглядається як наступне покоління схем VLSI. У роботі ми показуємо вплив мініатюризації на попит та проблеми симетричної планарної конструкції DG-SOI-MOSFET низької потужності та високої продуктивності. Застосовуючи графічний підхід, який використовувався раніше і складається з чисельного моделювання, дійсного для всіх умов зсуву, від підпорогової до сильної інверсії та від лінійної до насичення, ми візуалізували еволюцію характеристик передачі, а також вихідних і електричних характеристик і вихідної провідності шляхом зміни кожного з параметрів незалежно: товщини оксиду (tox), довжини (L) і ширини каналу (W). Отримані результати дозволили перевірити, як кожен параметр впливає на різні електричні властивості DG-SOI-MOSFET. Було виявлено, що L, W і tox значним чином впливають на зазначені властивості, а даний транзистор також включає ефекти модуляції довжини каналу (CLM) та індуковане стоком зниження бар'єру (DIBL). Це дослідження показало здатність передбачити електричну поведінку DG-SOI-MOSFET за його геометричними розмірами та можливість вибору оптимальних розмірів для забезпечення високої продуктивності цього транзистора як в аналогових, так і в цифрових схемах. |
Перелік посилань |