Автори | R. Dhanush, S. Ashok Kumar , V. Logisvary |
Афіліація |
Department of Electronics and Communication Engineering, Sri Manakula Vinayagar Engineering college, Madagadipet, Puducherry, India |
Е-mail | |
Випуск | Том 14, Рік 2022, Номер 5 |
Дати | Одержано 27 травня 2022; у відредагованій формі 20 жовтня 2022; опубліковано online 28 жовтня 2022 |
Цитування | R. Dhanush, S. Ashok Kumar, V. Logisvary, Ж. нано- електрон. фіз. 14 № 5, 05015 (2022) |
DOI | https://doi.org/10.21272/jnep.14(5).05015 |
PACS Number(s) | 85.30.Tv |
Ключові слова | Затвор із потрійним матеріалом (TM), Міжзонне тунелювання (BTBT), L-подібний тунельний польовий транзистор (TFET), Робота виходу (7) , Електричний потенціал, Кутове тунелювання, Підпорогове коливання (SS) (3) . |
Анотація |
У статті пропонується L-подібний тунельний польовий транзистор (TFET) з переважним тунельним струмом вздовж області затвора з використанням затвору та оксидної інженерії, а електричні характеристики транзистора досліджуються з використанням моделювання TCAD. Міжзонне тунелювання (BTBT) відбувається поблизу області затвора, а L-подібна структура призначена для придушення кутового тунелювання. Структура затвора із потрійним матеріалом (TM) сформована з трьома різними роботами виходу (WFs), а характеристики струму стоку змодельовані та порівняні з L-подібним TFET із затвором з одного матеріалу (SM). Структура моделюється та порівнюється з використанням різних діелектричних оксидів. Підпороговий нахил визначено для різних напруг і складає 40 mV/dec. Аналіз виконано за допомогою моделі slotboom для визначення впливу концентрації легуючої домішки на звуження забороненої зони в областях витоку/стоку. Основна мета роботи полягає в тому, щоб звести до мінімуму підпорогове коливання (SS), зменшити струм витоку та збільшити відношення струмів ION/IOFF шляхом зміни параметрів та моделювання за допомогою інструменту автоматизованого проектування Sentaurus TCAD. Нова структура формується із застосуванням затвора та оксидної інженерії. Існуючі параметри змінюються, а продуктивність покращується за рахунок меншого підпорогового нахилу, меншого струму витоку та більшого відношення струмів ION/IOFF. |
Перелік посилань |