Автори | І.Н. Колупаєв1, А.В. Мураховський1, Т.С. Кольцова2, В.О. Соболь2 , Dai Yu1 |
Афіліація |
1Національний технічний університет «Харківський політехнічний інститут», вул. Кирпичова, 2, 61002 Харків, Україна 2Санкт-Петербурзький державний політехнічний університет Петра Великого, вул. Політехнічна, 29, 195251 Санкт-Петербург, Росія |
Е-mail | igor.kolupaev@gmail.com |
Випуск | Том 10, Рік 2018, Номер 2 |
Дати | Одержано 27.12.2017; опубліковано online 29.04.2018 |
Цитування | І.Н. Колупаєв, А.В. Мураховський, Т.С. Кольцова, та ін., Ж. нано- електрон. фіз. 10 № 2, 02017 (2018) |
DOI | https://doi.org/10.21272/jnep.10(2).02017 |
PACS Number(s) | 05.45.Df, 61.43.Hv, 81.05.Je, 81.15.Aa |
Ключові слова | Поліграфне покриття, Оптична мікроскопія (2) , Морфологія поверхні (11) , Комп'ютерна обробка (3) , Фрактальна розмірність (4) . |
Анотація |
Зразки поліграфенових шарів на мідній підкладці були отримані за технологією CVD. Для отримання використовували газоподібну суміш метану, водню і аргону. Для аналізу ступеня заповнення і питомої площі поліграфії формованого на мідній підкладці використовувалася оптична мікроскопія (зі спеціалізованою комп'ютерною обробкою зображення) в поєднанні з методами спектроскопії комбінаційного розсіювання та атомно-силової мікроскопії. Запропоновано використовувати підхід на основі моделі подвійної структури (прозорі області графена і міді) для оцінки морфологічних параметрів поліграфенового покриття на мідній підкладці. Цей підхід використовується для первинної оптимізації виробничого процесу формування поліграфена. Запропоновано механізм початкових стадій росту поліграфену на міді. |
Перелік посилань |