Вплив одновісного тиску на σ2-провідність сильно легованого p-Si(B)

Автори Л.І. Панасюк1, , В.В. Коломоєць2, В.М. Єрмаков2, С.А. Федосов3
Приналежність

1 Луцький національний технічний університет, вул. Львівська, 75, 43018 Луцьк, Україна

2 Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьова НАН України, пр. Науки, 41, 03028 Київ, Україна

3 Східноєвропейський національний університет імені Лесі Українки, пр. Волі, 13, 43025 Луцьк, Україна

Е-mail leonid9030@gmail.com
Випуск Том 9, Рік 2017, Номер 1
Дати Одержано 13.12.2016, у відредагованій формі - 08.02.2017, опубліковано online - 20.02.2017
Посилання Л.І. Панасюк, В.В. Коломоєць, В.М. Єрмаков, С.А. Федосов, Ж. нано- електрон. фіз. 9 No 1, 01020 (2017)
DOI 10.21272/jnep.9(1).01020
PACS Number(s) 72.20.Fr
Ключові слова Кристал (161) , Домішкова провідність, Анізотропія (19) , Одновісний тиск, Тензорезистивний ефект, Крис-талографічний напрямок.
Анотація У роботі представлені результати досліджень тензорезистивного ефекту в сильно деформованих слабкоізоляторних кристалах р-Si(В) в області σ2-провідності для головних кристалографічних напрямків , та . Робота переслідує мету дослідити вплив сильного одновісного тиску на домішкову σ2-провідність у кристалах p-Si(B) із концентрацією домішок, яка наближається до критичної концентрації переходу метал-ізолятор та встановити механізми досліджуваних ефектів. Встановлено, що немонотонні залежності поздовжнього тензорезистивного ефекту для головних кристалографічних орієнтацій та їх анізотропія визначаються зміною ефективних мас важких дірок з тиском, обумовленою відповідними закономірностями перебудови енергетичного спектру валентної зони за рахунок зняття виродження зон важких і легких дірок при одновісному тиску.

Перелік посилань

English version of article