Особливості впливу X-випромінювання та магнітного поля на електрофізичні характеристики бар’єрних структур на основі дислокаційного p-Si, призначеного для сонячної енергетики

Автори Д.П. Слободзян , Б.В. Павлик , М.О. Кушлик
Приналежність

Львівський національний університет імені Івана Франка, вул. ген. Тарнавського, 107, 79017 Львів, Україна

Е-mail slobodzyan_d@ukr.net
Випуск Том 7, Рік 2015, Номер 4
Дати Одержано 28.07.2015, опубліковано online - 10.12.2015
Посилання Д.П. Слободзян, Б.В. Павлик, М.О. Кушлик, Ж. нано- електрон. фіз. 7 № 4, 04051 (2015)
DOI
PACS Number(s) 61.72.Lk, 61.72.Uf, 73.20.At, 73.40.Qv, 74.25.Ha, 78.70. – g
Ключові слова Кремній (82) , Поверхнево-бар’єрна структура, Х-випромінювання, Магнітне поле (30) , Дислокації (5) , Вольт-амперна характеристика (11) , Вольт-фарадна характеристика (2) , Поверхневі стани.
Анотація У роботі описано вплив малих доз Х-випромінювання (D < 400 Гр) та слабкого магнітного поля (B = 0,17 Тл) на зміну вольт-амперних та вольт-фарадних характеристик поверхнево-бар’єрних структур Bi-Si-Al на основі кристалів p-Si з концентрацією дислокацій > 102 см – 2 в приповерхневому шарі кремнію. Досліджено та проаналізовано процес накопичення заряду в діелектричному шарі SiO2 таких структур за дії зовнішніх полів.

Перелік посилань

English version of article