Автори | M. Hebali1,2 , M. Bennaoum1 , M. Benzohra3, D. Chalabi2 , A. Saïdane2 |
Афіліація |
1Department of Electrotechnical, University Mustapha STAMBOULI Mascara, 29000 Mascara, Algeria 2Laboratory: CaSiCCe, ENP Oran-MA, 31000 Oran, Algeria 3Department of Networking and Telecommunications, University of Rouen, Laboratory LECAP, 76000, France |
Е-mail | mourad.hebali@univ-mascara.dz |
Випуск | Том 11, Рік 2019, Номер 4 |
Дати | Одержано 13 лютого 2019; у відредагованій формі 02 серпня 2019; опубліковано online 22 серпня 2019 |
Цитування | M. Hebali, M. Bennaoum, M. Benzohra, та ін., Ж. нано- електрон. фіз. 11 № 4, 04021 (2019) |
DOI | https://doi.org/10.21272/jnep.11(4).04021 |
PACS Number(s) | 85.30.Tv |
Ключові слова | Si1 – xGex, BSIM3v3 (2) , 130 нм технологія (2) , I-V характеристика (2) , Температура (40) . |
Анотація |
Перспективи та доцільність роботи представлені для транзисторів MOSi1 – xGex змодельованих за 130 нм субмікронною технологією. Модель BSIM3v3 використовувалася для аналізу роботи транзисторів відповідно до вивчення впливу фракції x германію (з x ( 0 до x ( 1) на електричні характеристики цих транзисторів з урахуванням впливу температури. PSpice параметри двох різних транзисторів NMOSi1 – xGex і PMOSi1 – xGex були розраховані і використані у моделюванні. Вихідні і перехідні електричні характеристики були визначені в інтервалі температур від – 200 до 200 °С. Субпороговий режим також розглядався шляхом обчислення струмів ION та IOFF як функції VGS для постійного VDD. Результати моделювання показують, що вищезгадані транзистори працюють належним чином у режимі з пороговою напругою близько 1.2 В. Вони можуть бути використані в мікроелектроніці низької напруги та малої потужності шляхом керування фракцією x германію. |
Перелік цитувань |