Автори | K. Mahi , B. Messani, H. Aït-Kaci |
Афіліація |
Laboratoire de Physique des Plasmas, Matériaux Conducteurs et leurs Applications (LPPMCA), Faculté de Physique, Département de Physique Energétique, Université des Sciences et de la Technologie d'Oran Mohamed Boudiaf, USTO-MB, BP 1505, El M'naouer, 31000 Oran, Algérie |
Е-mail | mahikhalidou@yahoo.fr |
Випуск | Том 11, Рік 2019, Номер 4 |
Дати | Одержано 12 травня 2019; у відредагованій формі 02 серпня 2019; опубліковано online 22 серпня 2019 |
Цитування | K. Mahi, B. Messani, H. Aït-Kaci, Ж. нано- електрон. фіз. 11 № 4, 04030 (2019) |
DOI | https://doi.org/10.21272/jnep.11(4).04030 |
PACS Number(s) | 61.72.uj, 61.82.Bg, 61.82.Fk |
Ключові слова | InAsSb, I-V характеристика (2) , Послідовний опір (4) , Коефіцієнт ідеальності (7) , Струм насичення (3) , Процес дифузії. |
Анотація |
У компонентах на основі напівпровідників з використанням p-n-переходів, простих гетеро-переходів або в інших різних напівпровідникових системах велике значення має вольт-амперна характеристика (I-V), оскільки вона надає інформацію про роботу пристрою, характеристики і процеси перенесення заряду, що відбуваються в структурі пристрою. З прямої I-V характеристики можна отримати ключові електричні параметри, пов'язані з роботою пристрою, наприклад, послідовний опір (Rs), струм насичення (Is) і коефіцієнт ідеальності (n). Отримання правильних значень цих трьох параметрів, що залишається відкритою проблемою, іноді є складним завданням, особливо коли пристрій демонструє важливий вплив послідовного опору. Цей ефект часто викликає неідеальну або неекспоненційну I-V поведінку компоненти. Для отримання точних значень Rs, n і Is за умови кімнатної температури і прямої I-V характеристики, виміряної на діодах на основі подвійної межі поділу GaAlAsSb(p)/GaAlAsSb(n)/InAsSb(n), ми застосовували метод, який полягає у використанні зовнішніх резисторів, з'єднаних послідовно з пристроєм під час вимірювань. Для отримання величини Rs пристрою, а потім для знаходження точних значень n і Is був використаний простий математичний підхід для обробки даних. Цей підхід вперше застосовується до модельованих I-V даних, а потім до I-V характеристик, виміряних на наших мезо-діодах. Результати, отримані як для модельованих, так і для виміряних характеристик, порівнюються з результатами, отриманими при використанні інших підходів, що зустрічаються в літературі. Відповідно до значень, отриманих для електричних параметрів нашого пристрою, процес дифузії дірок від InAsSb до бар'єру GaAlAsSb, здається, відповідає за електричний потік у нашій структурі. Останній результат узгоджується з результатами, опублікованими іншими авторами і пов'язаними з подібною до нашої напівпровідниковою системою. |
Перелік посилань |