Ентропійна оцінка процесу лазерного охолодження

Автори Ю.С. Курський , Ю.П. Мачехін, О.С. Гнатенко
Приналежність

Харківський національний університет радіоелектроніки, пр. Науки, 14, 61166 Харків, Україна

Е-mail
Випуск Том 10, Рік 2018, Номер 5
Дати Одержано 12.07.2018; у відредагованій формі – 20.10.2018; опубліковано online 29.10.2018
Посилання Ю.С. Курський, Ю.П. Мачехін, О.С. Гнатенко, Ж. нано- електрон. фіз. 10 № 5, 05030 (2018)
DOI https://doi.org/10.21272/jnep.10(5).05030
PACS Number(s) 42.55, 02.40.Xx, 65.40.gd, 89.70.Cf, 06.02. – f
Ключові слова Лазерне охолодження частинок, Ентропія Шеннона, Розподіл Максвелла, Ентропійна шкала.
Анотація

В роботі розглядається задача лазерного охолодження частинок (атомів, іонів, молекул). Досліджено можливість оцінки параметрів ансамблів частинок із застосуванням ентропічного аналізу. Процес охолодження розглядається з позицій теорії відкритих систем і нелінійної метрології. Показано, що лазерне охолодження представляє собою процес взаємодії детермінованої системи лазерного випромінювання з хаотичною системою частинок, що перебувають у броунівському русі. Для оцінки швидкості та температури ансамблю частинок, та контролю процесу авторам пропонується використовувати інформаційно-ентурологічний підхід. Отримано вираз для оцінки ентопії ансамблів частинок, як функції частоти розсіяного випромінювання, та запропонована ентопійна шкала оцінки температури охолоджуваних частинок.

Перелік посилань

English version of article