Багатошарові наноструктуровані покриття (TiZr)N / (TiSi)N, сформовані методом вакуумно-дугового осадження

Автори C.В. Литовченко1, Б.О. Мазілін1, В.М. Береснєв1 , В.О. Столбовий2, М.Г. Ковалева3, О.В. Крицина3, І.В. Колодій2, О.В. Глухов4, Л.В. Маліков5
Приналежність

1Харківський національний університет імені В. Н. Каразіна, Харків, Україна

2Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут», Харків, Україна

3Бєлгородський державний національний дослідницький університет, Бєлгород, Російська Федерація

4Харьковскій національний університет радіоелектроніки, Харків, Україна

5Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України, Харків, Україна

Е-mail
Випуск Том 10, Рік 2018, Номер 5
Дати Одержано 16.09.2018; у відредагованій формі 22.10.2018; опубліковано online 29.10.2018
Посилання C.В. Литовченко, Б.О. Мазілін, В.М. Береснєв, та ін., Ж. нано- електрон. фіз. 10 № 5, 05041 (2018)
DOI https://doi.org/10.21272/jnep.10(5).05041
PACS Number(s) 61.46. – w, 62.20.Qp, 62-65. – g
Ключові слова Нітридні покриття (7) , Багатошарове покриття (4) , Елементний склад (9) , Структура (212) , Мікротвердість (27) , Адгезійна міцність (4) .
Анотація

Досліджено структуру та властивості наномасштабних багатошарових покриттів на основі (TiZr)N та (TiSi)N, сформованих ваккумно-дуговим методом. Проаналізовано вплив парціального тиску азоту на структурно-фазовий стан покриттів. Нітридні фази є сильно текстурованими, кристалографічні площини (111) більшості зерен орієнтовані паралельно до поверхні. Розраховано розміри областей когерентного розсіювання і рівні мікроспотворень ґратів. Твердість покриттів досягала 37,1 ГПа, а навантаження адгезійного руйнування перевищує 150 Н. Технологія процесу забезпечує високу однорідність і низьку дефектність сформованого покриття.

Перелік посилань