Вплив тиску азотної атмосфери при осадженні вакуумно-дугових многоперіодних покриттів (Ti, Si)N/MoN на їх структуру та властивості

Автори В.М. Береснев1 , О.В. Соболь2 , А.А. Мейлехов2, А.А. Постельнік2, В.Ю. Новіков3, Д.А. Колесніков3 , В.А. Столбовой4, У.С. Немченко1, П.А. Сребнюк1
Приналежність

1 Харківський національний університет імені В.Н. Каразіна, майдан Свободи, 4, 61022 Харків, Україна

2 Національний технічний університет «Харківський політехнічний інститут», вул. Кирпичова, 21, 61002 Харків, Україна

3 Бєлгородський державний національний дослідницький університет, вул. Перемоги, 85, 308015 Бєлгород, Російська Федерація

4 Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут», вул. Академічна, 1, 61108 Харків, Україна

Е-mail
Випуск Том 8, Рік 2016, Номер 4
Дати Одержано 30.06.2016, у відредагованій формі - 23.11.2016, опубліковано online - 29.11.2016
Посилання В.М. Береснев, О.В. Соболь, А.А. Мейлехов, та ін., Ж. нано- електрон. фіз. 8 № 4(1), 04023 (2016)
DOI 10.21272/jnep.8(4(1)).04023
PACS Number(s) 61.46. – w, 62.20.Qp, 62-65. – g
Ключові слова Багатоперіодне покриття (2) , (Ti (4) , Si)N/MoN, Тиск (29) , Вміст азоту (3) , Високотемпературний відпал (2) , Структура (212) , Твердість (64) .
Анотація Використовуючи комплекс методів структурної інженерії, що включає: елементний аналіз, рентгендифракційні дослідження і вимірювання мікротвердості, в роботі проведено аналіз впливу робочого тиску азотної атмосфери при осадженні (PN) на формування фазово-структурного стану і механічних властивості многоперіодних вакуумно-дугових покриттів системи (Ti, Si)N/MoN. Показано, що в інтервалі тисків, що використовувалися, PN  0,05…0,67 Па при підвищенні тиску відбуваються зміни на елементному рівні: зменшується вміст Si, збільшуються – N і відносини Mo/Ti). На фазовому рівні в основному зміни відбуваються в шарах на основі молібдену, де зі збільшенням тиску відбувається перехід Mo → -Mo2N → MoN. Найбільша твердість (37,5 ГПа) досягається в цьому випадку при утворенні шарів TiN/-Mo2N з ізоструктурною кристалічною решіткою. Використання високотемпературного відпалу (1023 K) дозволяє підвищити твердість покриттів, отриманих при відносно невисокому PN  0,09 Па, коли через малий вміст азоту можливе формування додаткової твердої фази Ti5Si3.

Перелік посилань