Автори | Y.S. Ergashov1, S.B. Donaev2 |
Афіліація |
1National University of Uzbekistan, 100174 Tashkent, Uzbekistan 2Tashkent State Technical University, 100095 Tashkent, Uzbekistan |
Е-mail | |
Випуск | Том 14, Рік 2022, Номер 4 |
Дати | Одержано 19 червня 2022; у відредагованій формі 09 серпня 2022; опубліковано online 25 серпня 2022 |
Цитування | Y.S. Ergashov, S.B. Donaev, Ж. нано- електрон. фіз. 14 № 4, 04026 (2022) |
DOI | https://doi.org/10.21272/jnep.14(4).04026 |
PACS Number(s) | 61.72.uj, 68.55.Ln |
Ключові слова | Поверхня (33) , Електронна спектроскопія (6) , Надвисокий вакуум, Монокристал (19) , Іонна імплантація (6) . |
Анотація |
Одним із фундаментальних напрямів використання іонної імплантації металів є формування поверхневих сплавів будь-якого складу, а їх кількісна характеристика – розподіл атомів домішкового елемента в глибині поверхневого шару металевої підкладки [1-5]. При вивченні внеску кожного компонента в зміну електронної структури, емісійно-адсорбційних і каталітичних властивостей багатокомпонентних металевих сплавів, створення особливо чистих металевих твердих розчинів, а також визначення фактичної концентрації легуючих елементів і їх розподілу в поверхневому шарі кристалів, мають велике значення. Для дослідження профілів розподілу концентрації іонно-імплантованих атомів тугоплавких металів у сплавах на основі тугоплавких металів використано метод пошарового аналізу за допомогою оже-електронної спектроскопії в поєднанні з аргоновою іонною гарматою. У роботі на прикладі імплантації низькоенергетичних іонів молібдену в монокристал ніобію огранювання (100) розглянуто особливості створення поверхневих сплавів на основі тугоплавких металів з низькою концентрацією легуючого елемента та розподілом іонно-імплантованого металу в приповерхневій області кристала [5-9]. |
Перелік посилань |