Розподіл атомів молібдену в глибині поверхневого шару монокристалу ніобію, отриманого іонним бомбардуванням

Автори Y.S. Ergashov1, S.B. Donaev2
Приналежність

1National University of Uzbekistan, 100174 Tashkent, Uzbekistan

2Tashkent State Technical University, 100095 Tashkent, Uzbekistan

Е-mail
Випуск Том 14, Рік 2022, Номер 4
Дати Одержано 19 червня 2022; у відредагованій формі 09 серпня 2022; опубліковано online 25 серпня 2022
Посилання Y.S. Ergashov, S.B. Donaev, Ж. нано- електрон. фіз. 14 № 4, 04026 (2022)
DOI https://doi.org/10.21272/jnep.14(4).04026
PACS Number(s) 61.72.uj, 68.55.Ln
Ключові слова Поверхня (35) , Електронна спектроскопія (6) , Надвисокий вакуум, Монокристал (18) , Іонна імплантація (6) .
Анотація

Одним із фундаментальних напрямів використання іонної імплантації металів є формування поверхневих сплавів будь-якого складу, а їх кількісна характеристика – розподіл атомів домішкового елемента в глибині поверхневого шару металевої підкладки [1-5]. При вивченні внеску кожного компонента в зміну електронної структури, емісійно-адсорбційних і каталітичних властивостей багатокомпонентних металевих сплавів, створення особливо чистих металевих твердих розчинів, а також визначення фактичної концентрації легуючих елементів і їх розподілу в поверхневому шарі кристалів, мають велике значення. Для дослідження профілів розподілу концентрації іонно-імплантованих атомів тугоплавких металів у сплавах на основі тугоплавких металів використано метод пошарового аналізу за допомогою оже-електронної спектроскопії в поєднанні з аргоновою іонною гарматою. У роботі на прикладі імплантації низькоенергетичних іонів молібдену в монокристал ніобію огранювання (100) розглянуто особливості створення поверхневих сплавів на основі тугоплавких металів з низькою концентрацією легуючого елемента та розподілом іонно-імплантованого металу в приповерхневій області кристала [5-9].

Перелік посилань