Вплив рівня легування на газову чутливість кремнієвих p-n переходів

Автори O.O. Птащенко1, Ф.O. Птащенко2, В.Р. Гільмутдінова1, О.С. Кирничук1
Приналежність

1Oдеський національний університет імені I.I. Meчникова, вул. Дворянська, 2, 65026 Одеса, Україна

2Національний університет "Одеська морська академія", вул. Дідріхсона, 8, 65029 Одеса, Україна

Е-mail aptash@onu.edu.ua
Випуск Том 10, Рік 2018, Номер 3
Дати Одержано 26.12.2017, у відредагованій формі – 06.06.2018, опубліковано online 25.06.2018
Посилання O.O. Птащенко, Ф.O. Птащенко, В.Р. Гільмутдінова, О.С. Кирничук, Ж. нано- електрон. фіз. 10 № 3, 03022 (2018)
DOI https://doi.org/10.21272/jnep.10(3).03022
PACS Number(s) 07.07.Df, 68.47.Fg
Ключові слова Кремній (82) , p-n перехід (4) , Газовий сенсор (2) , Аміак (7) , Поріг чутливості, Рівень легування (5) .
Анотація

Експериментально досліджено характеристики кремнієвих дифузійних p-n переходів як сенсорів парів води і аміаку в широкому діапазоні значень градієнта концентрації домішок a. Встановлено, що зменшення величини a від 6·1023 см – 4 до 5·1019 см – 4 знижує поріг чутливості Pm p-n структур до парів NH3 (тобто, мінімальний парціальний тиск парів, який можна зареєструвати) на два порядки, до значень біля 0,5 Па. Ця величина значно нижча, ніж у мембран із мезопористого кремнію і кремнієвих нанодротів, виготовлених із пластин з концентрацією домішки бору 1018 см – 3. Розкид порогу чутливості серед досліджених зразків пояснюється впливом неконтрольованих поверхневих центрів. Обробка зразків послідовно у HF і воді різко підвищує поріг чутливості, а витримка у водному розчині Na2S значно знижує його.

Перелік посилань

English version of article