| Автори | R. Swargiary1, K.C.D. Sarma1, B.N. Thakur2 |
| Афіліація |
1Department of Instrumentation Engineering, Central Institute of Technology, 783370 Kokrajhar, India 2Department of Electrical and Electronics Engineering, Bhilai Institute of Technology, 481001 Chhattisgarh, India |
| Е-mail | ph22ie1001@cit.ac.in |
| Випуск | Том 18, Рік 2026, Номер 3 |
| Дати | Одержано 24 лютого 2026; у відредагованій формі 23 червня 2026; опубліковано online 26 червня 2026 |
| Цитування | R. Swargiary, K.C.D. Sarma, B.N. Thakur, Ж. нано- електрон. фіз. 18 № 3, 03014 (2026) |
| DOI | https://doi.org/10.21272/jnep.18(3).03014 |
| PACS Number(s) | 72.80.Ga, 85.30.Tv |
| Ключові слова | JLFET (6) , Подвійні ворота, Піднятий витік джерела, Матеріали корпусу. |
| Анотація |
Gредставлено вплив властивостей матеріалу корпусу на електричні характеристики безпольового транзистора з піднятим витоком та двома затворними переходами (RSD DG JLFET). Для розуміння поведінки пристрою проведено математичний аналіз струму стоку, порогової напруги та підпорогового коливання з урахуванням області піднятого витоку та стоку. Дослідження проведено за допомогою моделювання на основі TCAD з п'ятьма напівпровідниковими матеріалами: кремнієм (Si), германієм (Ge), карбідом кремнію (SiC), нітридом галію (GaN) та арсенідом галію (GaAs). Результати моделювання показують, що складні напівпровідники, зокрема SiC та GaN, демонструють кращі електричні характеристики порівняно з елементарними напівпровідниками, такими як Si та Ge, головним чином завдяки їхній вищій рухливості носіїв заряду та ширшій забороненій зоні. У дослідженні систематично аналізуються ключові параметри пристрою, включаючи товщину каналу, довжину каналу, товщину затворного оксиду та діелектричну проникність затворного оксиду, для оцінки їхнього впливу на продуктивність пристрою. Аналіз показує, що SiC та GaN демонструють вищий струм стоку, покращену стабільність порогової напруги та нижчий підпороговий розмах, що призводить до кращої ефективності пристрою та зменшення струмів витоку за підвищених температур. Загалом, отримані результати демонструють, що широкозонні складні напівпровідники, такі як SiC та GaN, є дуже перспективними для високопродуктивних та термічно стійких наноелектронних застосувань. |
|
Перелік посилань |