Автори | A.M. Sultanov, E.K. Yusupov, R.G. Rakhimov |
Афіліація |
Namangan Institute of Engineering and Technology, 160115 Namangan, Uzbekistan |
Е-mail | sultanov.nammti@gmail.com |
Випуск | Том 16, Рік 2024, Номер 1 |
Дати | Одержано 05 січня 2024; у відредагованій формі 14 лютого 2024; опубліковано online 28 лютого 2024 |
Цитування | A.M. Sultanov, E.K. Yusupov, R.G. Rakhimov, Ж. нано- електрон. фіз. 16 № 1, 01010 (2024) |
DOI | https://doi.org/10.21272/jnep.16(1).01010 |
PACS Number(s) | 073.63.Hs, 73.21.Fg, 73.21. − b |
Ключові слова | Рідкофазна епітаксія (РФЕ), Гетероструктури (9) , Високовольтний p0-n0 перехід, Ефект Холла (5) , Фонове ле-гування, Розчин-розплав. |
Анотація |
Розроблено технологію та знайдено оптимальне рішення для отримання p0-n0 переходів на основі слаболегованих шарів GaAs з високими значеннями електричних параметрів і заданими товщинами базових шарів для створення надшвидкісних високовольтних імпульсних трьох -електродні перемикачі з фотонно-інжекційним механізмом перенесення безкворумних носіїв заряду. Досліджено залежність комутаційної стійкості від керуючого імпульсу створених високовольтних фотонно-інжекційних перемикачів у широкострумовому та частотному режимі їх роботи, його чутливість до різноманітних зовнішніх та внутрішніх впливів цих параметрів. Від товщини p0-шару, від коефіцієнта передачі, від напруги пробою Uтріал, високовольтного переходу p0-n0, від товщини розчину-розплаву, від температури початку кристалізації, а також як залежність коефіцієнта передачі від товщини p0-шару.Kлючові слова: Рідкофазна епітаксія (РФЕ), Гетероструктури, Високовольтний p0-n0 перехід, Ефект Холла, Фонове легування, Розчин-розплав. |
Перелік посилань |