Дослідження впливу технологічних факторів на високовольтні p0–n0 переходи на основі GaAs

Автори A.M. Sultanov, E.K. Yusupov, R.G. Rakhimov
Приналежність

Namangan Institute of Engineering and Technology, 160115 Namangan, Uzbekistan

Е-mail sultanov.nammti@gmail.com
Випуск Том 16, Рік 2024, Номер 1
Дати Одержано 05 січня 2024; у відредагованій формі 14 лютого 2024; опубліковано online 28 лютого 2024
Посилання A.M. Sultanov, E.K. Yusupov, R.G. Rakhimov, Ж. нано- електрон. фіз. 16 № 1, 01010 (2024)
DOI https://doi.org/10.21272/jnep.16(1).01010
PACS Number(s) 073.63.Hs, 73.21.Fg, 73.21. − b
Ключові слова Рідкофазна епітаксія (РФЕ), Гетероструктури (6) , Високовольтний p0-n0 перехід, Ефект Холла (4) , Фонове ле-гування, Розчин-розплав.
Анотація

Розроблено технологію та знайдено оптимальне рішення для отримання p0-n0 переходів на основі слаболегованих шарів GaAs з високими значеннями електричних параметрів і заданими товщинами базових шарів для створення надшвидкісних високовольтних імпульсних трьох -електродні перемикачі з фотонно-інжекційним механізмом перенесення безкворумних носіїв заряду. Досліджено залежність комутаційної стійкості від керуючого імпульсу створених високовольтних фотонно-інжекційних перемикачів у широкострумовому та частотному режимі їх роботи, його чутливість до різноманітних зовнішніх та внутрішніх впливів цих параметрів. Від товщини p0-шару, від коефіцієнта передачі, від напруги пробою Uтріал, високовольтного переходу p0-n0, від товщини розчину-розплаву, від температури початку кристалізації, а також як залежність коефіцієнта передачі від товщини p0-шару.Kлючові слова: Рідкофазна епітаксія (РФЕ), Гетероструктури, Високовольтний p0-n0 перехід, Ефект Холла, Фонове легування, Розчин-розплав.

Перелік посилань