Автори | Y. Hashim |
Афіліація |
Tishk International University, Computer Engineering Department, Erbil, Kurdistan Region, Iraq |
Е-mail | yasir.hashim@tiu.edu.iq |
Випуск | Том 16, Рік 2024, Номер 1 |
Дати | Одержано 04 січня 2024; у відредагованій формі 18 лютого 2024; опубліковано online 28 лютого 2024 |
Цитування | Y. Hashim, Ж. нано- електрон. фіз. 16 № 1, 01018 (2024) |
DOI | https://doi.org/10.21272/jnep.16(1).01018 |
PACS Number(s) | 62.23.Hj, 87.85.Dh |
Ключові слова | GaP (44) , FinFET (18) , N-канал, Температура (41) , Сенсор (50) . |
Анотація |
У цьому дослідженні аналізується вплив температури на характеристики передачі, порогову напругу, співвідношення ION/IOFF, зниження бар’єру, викликаного стоком (DIBL), і підпорогове коливання (SS) у N-канальному фосфідному галієвому транзисторі (FinFET). Температурні властивості GaP-FinFET були вивчені за допомогою інструменту моделювання (MuGFET). Через нижче співвідношення ION/IOFF, вищий DIBL і вищий SS при вищих температурах результати показують шкідливий вплив підвищеної робочої температури на використання GaP-FinFET в електронних схемах, таких як цифрові схеми та схеми підсилювачів. Крім того, найкращою ситуацією для використання транзистора як температурного нанодатчика є його увімкнений стан. |
Перелік посилань |