Автори | M. Hebali1,2 , B. Ibari1 , M. Bennaoum1 , M. Berka1 , M. El-A. Beyour1, A. Maachou1 |
Афіліація |
1Department of Electrotechnical, University Mustapha STAMBOULI Mascara, 29000 Mascara, Algeria 2Laboratory: CaSiCCe, ENP Oran-MA, 31000 Oran, Algeria |
Е-mail | mourad.hebali@univ-mascara.dz |
Випуск | Том 15, Рік 2023, Номер 6 |
Дати | Одержано 05 жовтня 2023; у відредагованій формі 20 грудня 2023; опубліковано online 27 грудня 2023 |
Цитування | M. Hebali, B. Ibari, M. Bennaoum, та ін., Ж. нано- електрон. фіз. 15 № 6, 06011 (2023) |
DOI | https://doi.org/10.21272/jnep.15(6).06011 |
PACS Number(s) | 85.30.Tv, 85.35. – p |
Ключові слова | Si (564) , 4H-SiC, Температура (41) , Смарт-датчик, CMOS (19) . |
Анотація |
Одним із багатьох застосувань технології CMOS є розробка датчиків температури. У цій статті електричні характеристики смарт-датчика температури CMOS (Si та 4H-SiC) за технологією 130 нм досліджувалися за допомогою програмного забезпечення OrCAD PSpice. Запропонована схема CMOS розроблена для створення першого інтелектуального датчика температури на основі двох різних напівпровідникових технологій (Si та 4H-SiC), інтегрованих в одну мікросхему. Ці технології активуються окремо відповідно до діапазону температур (Низький і Високий). Дослідження цього інтелектуального датчика показало, що вони працюють при низькій напрузі менше 0,8 В і наднизькій потужності порядку нВт. Крім того, він характеризується високою чутливістю та хорошою лінійністю в діапазоні температур від – 120 °C до 500 °C. Очікується, що використання технологій Si та 4H-SiC для обох діапазонів температур (низького та високого) відповідно збільшить термін служби датчика. |
Перелік посилань |