Автори | Л.Є Конотопський, І.А. Копилець, В.А. Севрюкова, Є.М. Зубарєв, В.В. Кондратенко |
Афіліація | Національний технічний університет “Харківський політехнічний інститут”, вул. Фрунзе, 21, 61002 Харків, Україна |
Е-mail | kkana357@gmail.com |
Випуск | Том 8, Рік 2016, Номер 2 |
Дати | Одержано 20.01.2016, опубліковано online - 21.06.2016 |
Цитування | Л.Є Конотопський, І.А. Копилець, В.А. Севрюкова, та ін., Ж. нано- електрон. фіз. 8 № 2, 02021 (2016) |
DOI | 10.21272/jnep.8(2).02021 |
PACS Number(s) | 68.60. – p, 68.60.Dv, 68.65.Ac |
Ключові слова | Багатошарове рентгенівське дзеркало (4) , Силіцид магнію, Рентгенівський фазовий аналіз, Електронна мікродифракція. |
Анотація | Електронно-мікроскопічними та рентгенографічними методами досліджені особливості росту нанорозмірних шарів силіциду магнію у багатошаровому рентгенівському дзеркалі Si/Mg2Si у вихідному стані та після відпалу. Встановлено, що у вихідному стані шари силіциду магнію являють собою аморфну матрицю з включеннями нанокристалічної фази Mg2Si у метастабільній гексагональній модифікації. Формування силіциду магнію у гексагональній модифікації відбувається під впливом механічних напружень, джерелом яких є шари кремнію. Відпал багатошарового рентгенівського дзеркала Si/Mg2Si при T = 723 К призводить до кристалізації та рекристалізації силіциду магнію з аморфної фази, що супроводжується зменшенням періоду рентгенівського дзеркала на 7.3 %. |
Перелік посилань |