Вплив безвакуумного відпалу на морфологію покриттів NbNх, NbNx : Si

Автори В.М. Рогоз1,2, О.П. Кузьменко3, О.В. Соболь4, А. Плющик1
Приналежність

1 Сумський державний університет, вул. Римского-Корсакова, 2, 40007 Суми, Україна

2 NanoBioMedical Centre, Adam Mickiewicz University in Poznań, Umultowska 85, Poznań, Poland

3 Курський державний технічний університет, Центр колективного використання «Наукомісткі технології», вул. 50 років Жовтня, 94, 305040 Курськ, Росія

4 Національный техничний університет "Харківский політехничний інститут", вул. Фрунзе, 21, 61002 Харків, Україна

Е-mail v.rogoz2009@gmail.com
Випуск Том 8, Рік 2016, Номер 2
Дати Одержано 08.02.2016, опубліковано online - 21.06.2016
Посилання В.М. Рогоз, О.П. Кузьменко, О.В. Соболь, А. Плющик, Ж. нано- електрон. фіз. 8 № 2, 02019 (2016)
DOI 10.21272/jnep.8(2).02019
PACS Number(s) 81.40.Ef, 61.72. – y, 68.37. – d
Ключові слова Морфологія (25) , Твердість (64) , Відпал (31) , NbNх, NbNx : Si, Фазовий та елементний склад (2) .
Анотація У роботі описуються особливості зміни покриття нітриду ніобію з додаванням домішки кремнію і без нього. Зразки були отримані методом магнетронного осадження при негативному потенціалі Us = − 40 В на підкладку з кремнію. Після осадження проводився високотемпературний відпал 800 °С в атмосфері повітря.

Перелік посилань

English version of article