Автори | В.М. Рогоз1,2, О.П. Кузьменко3, О.В. Соболь4, А. Плющик1 |
Афіліація | 1 Сумський державний університет, вул. Римского-Корсакова, 2, 40007 Суми, Україна 2 NanoBioMedical Centre, Adam Mickiewicz University in Poznań, Umultowska 85, Poznań, Poland 3 Курський державний технічний університет, Центр колективного використання «Наукомісткі технології», вул. 50 років Жовтня, 94, 305040 Курськ, Росія 4 Національный техничний університет "Харківский політехничний інститут", вул. Фрунзе, 21, 61002 Харків, Україна |
Е-mail | v.rogoz2009@gmail.com |
Випуск | Том 8, Рік 2016, Номер 2 |
Дати | Одержано 08.02.2016, опубліковано online - 21.06.2016 |
Цитування | В.М. Рогоз, О.П. Кузьменко, О.В. Соболь, А. Плющик, Ж. нано- електрон. фіз. 8 № 2, 02019 (2016) |
DOI | 10.21272/jnep.8(2).02019 |
PACS Number(s) | 81.40.Ef, 61.72. – y, 68.37. – d |
Ключові слова | Морфологія (28) , Твердість (67) , Відпал (33) , NbNх, NbNx : Si, Фазовий та елементний склад (2) . |
Анотація | У роботі описуються особливості зміни покриття нітриду ніобію з додаванням домішки кремнію і без нього. Зразки були отримані методом магнетронного осадження при негативному потенціалі Us = − 40 В на підкладку з кремнію. Після осадження проводився високотемпературний відпал 800 °С в атмосфері повітря. |
Перелік посилань English version of article |