Особливості напруженого стану германієвих нанокристалів в матриці SiOx

Автори В.В. Курилюк1 , О.А. Коротченков1, З.Ф. Цибрий2, А.С. Николенко2, В.В. Стрельчук2
Приналежність

1 Київський національний університет імені Тараса Шевченка, фізичний факультет, вул. Володимирська, 64/13, 01601 Київ, Україна

2 Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьова НАНУ, просп. Науки, 41, 03028 Київ, Україна

Е-mail kuryluk@univ.kiev.ua
Випуск Том 7, Рік 2015, Номер 1
Дати Одержано 09.02.2015, опубліковано online - 25.03.2015
Посилання В.В. Курилюк, О.А. Коротченков, З.Ф. Цибрий, та ін., Ж. нано- електрон. фіз. 7 № 1, 01029 (2015)
DOI
PACS Number(s) 68.65.Hb, 78.67.Hc
Ключові слова Нанокристал (45) , Квантова точка (10) , Механічні напруження (4) , Гетероструктура (16) .
Анотація З використанням ІЧ Фур’є-спектроскопії, раманівського розсіювання та комп’ютерного моделювання досліджуються особливості механічних напружень в германієвих нанокристалах, синтезованих в аморфній матриці SiOx з буферним шаром SixNy. Встановлено, що германієві нанокристали зазнають суттєвих напружень стиснення величиною до 2.9 ГПа. Високі значення деформацій пояснюються частковим проникненням нанокристалів у кремнієву підкладку. Основним джерелом механічних напружень в цьому випадку слугує невідповідність решіток кремнію та германію.

Перелік посилань