Закономірності формування структури покриттів CrN, отриманих вакуумно-дуговим випаровуванням в атмосфері азоту

Автори О.В. Соболь1 , А.А. Андрєєв2 , В.А. Столбовой , Н.В. Пінчук1, А.А. Мейлехов1
Приналежність

1 НТУ «Харківський політехнічний інститут», вул. Фрунзе, 21, 61002 Харків, Україна

2 ННЦ «Харківський фізико-технічний інститут», вул. Академічна, 1, 61108 Харків, Україна

Е-mail sool@kpi.kharkov.ua
Випуск Том 7, Рік 2015, Номер 1
Дати Одержано 04.11.2014, у відредагованій формі - 27.02.2015, опубліковано online - 25.03.2015
Посилання О.В. Соболь, А.А. Андрєєв, В.А. Столбовой, та ін., Ж. нано- електрон. фіз. 7 № 1, 01026 (2015)
DOI
PACS Number(s) 81.07.Bc, 61.05.сp, 68.55.jm, 61.82.Rx
Ключові слова Вакуумно-дугового метод (2) , Тиск (29) , CrN (7) , Текстура (11) , Субструктура (7) , Інтенсивність (7) , Розмір кристалітів (6) .
Анотація Розглянуто питання структурної інженерії покриттів системи Cr-N, отриманих вакуумно-дуговим випаровуванням катода Cr в азотній атмосфері. В якості змінюваних фізико-технологічних параметрів використовувалися: тиск азотної атмосфери (3,5…48)×10 – 4 Торр і негативний потенціал зсуву, що подається на підкладку в постійному (Uip = – 120 В) і імпульсному (Uip = – 1200 В) режимах. Збільшення тиску без імпульсного впливу дозволяє переходити від фази Cr + Cr2N до фази текстурованих кристалітів CrN з віссю [111]. Перехід від металевої фази до нитридної супроводжується зменшенням середнього розміру кристалітів. Додаткова подача імпульсного потенціалу дозволяє інтенсифікувати процес утворення нітридів і стимулює при високих тисках формування радіаційно-стійкої текстури з віссю [110].

Перелік посилань