Автори | А.О. Козак , В.І. Іващенко , О.К. Порада , Л.А. Іващенко , Т.В. Томіла |
Афіліація | Інститут проблем матеріалознавства, НАН України, вул. Кржижановського, 3, 03142 Київ, Україна |
Е-mail | |
Випуск | Том 6, Рік 2014, Номер 4 |
Дати | Одержано 15.09.2014; опубліковано online - 29.11.2014 |
Цитування | А.О. Козак, В.І. Іващенко, О.К. Порада, та ін., Ж. нано- електрон. фіз. 6 № 4, 04047 (2014) |
DOI | |
PACS Number(s) | 81.15.Gh, 73.61.Jc, 62.20.Qp |
Ключові слова | PECVD (7) , Гексаметилдісилазан (3) , Si-C-N плівки (2) , FTIR (30) , Наноіндентування (4) . |
Анотація | Досліджено вплив температури підкладкотримача в інтервалі температур (40-400 °С) на властивості Si-C-N плівок, осаджених плазмохімічним методом з гексаметилдісилазану. Проведено дослідження структури, картини хімічних зв’язків, морфології поверхні, механічних властивостей та енергетичної щілини з використанням рентгенівської дифрактометрії, інфрачервоної спектроскопії, рентгенівської фотоелектронної спектроскопії, атомно-силового мікроскопу, наноіндетування та оптичним поглинанням. Встановлено, що всі плівки є рентгеноаморфними і мають низьку шорсткість поверхні. З підвищенням температури підкладкотримача до 400°С відбуваються інтенсивна ефузія водню з плівок, що сприяє зменшенню шорсткості, а також збільшенню твердості та модуля пружності плівок. |
Перелік посилань |