Вплив екрануючого потенціалу на процес формування наноструктурованих нітридних покриттів системи MoN/CrN

Автори С.В. Литовченко1 , В.М. Береснєв1 , О.В.Максакова1,2, Р.С. Галушков1, С.А. Клименко3. Д.В. Горох1, О.В. Глухов4 , І.В. Дощечкіна5, Б.О. Мазілін1
Афіліація

1Харківський національний університет імені В.Н. Каразіна, 61022 Харків, Україна

2Інститут матеріалознавства, Словацький технологічний університет у Братиславі, 917 24, Трнава, Словаччина

3Інститут надтвердих матеріалів імені В.Н. Бакуля НАН України, 04074 Київ, Україна

4Харківський національний університет радіоелектроніки, 61166 Харків, Україна

5Харківськийнаціональнийавтомобільно-дорожнійуніверситет, 61200 Харків, Україна

Е-mail v.beresnev@karazin.ua
Випуск Том 17, Рік 2025, Номер 4
Дати Одержано 25 травня 2025; у відредагованій формі 14 серпня 2025; опубліковано online 29 серпня 2025
Цитування С.В. Литовченко, В.М. Береснєв, О.В.Максакова, та ін., Ж. нано- електрон. фіз. 17 № 4, 04033 (2025)
DOI https://doi.org/10.21272/jnep.17(4).04033
PACS Number(s) 61.46. – w, 62.20.Qp, 62-65. – g
Ключові слова Вакуумно-дугове осадження (4) , Багатошарові покриття (8) , Твердість (71) , Адгезійна міцність (7) .
Анотація

Методом вакуумно-дугового осадження синтезовано багатошарові нітридні покриття MoN/CrN за двох різних потенціалів зміщення підкладки, а саме Uзс = – 100 В та Uзс = – 200 В. Покриття осаджували за робочого тиску азоту PN = 0,53 Па. Систематично досліджено структурні та механічні властивості отриманих покриттів, особливу увагу приділено мікротвердості та термічній стабільності. Дослідження показало, що збільшення потенціалу зміщення від – 100 В до – 200 В призвело до значного підвищення твердості покриттів. Зокрема, покриття, осаджені при Uзс = – 200 В, продемонстрували на 23,5 % вищу твердість порівняно з покриттями, отриманими при Uзс = – 100 В, що вказує на покращене ущільнення і, можливо, більш тонкі мікроструктурні особливості, індуковані бомбардуванням іонами з вищою енергією. Виміряні значення мікротвердості (HV0,05) осаджених покриттів становили 25,6 ГПа для Uзс = – 100 В і 28,8 ГПа для Uзс = – 200 В. Дані значення підтверджують позитивний вплив більшого негативного зміщення підкладки на механічні характеристики багатошарової архітектури. Крім того, після осадження було проведено відпал при T = 700 °C для оцінки термічної стабільності та можливих фазових перетворень. Важливо, що відпал не призвів до збільшення твердості; навпаки, спостерігалося незначне зменшення середньої мікротвердості для покриття, осадженого при Uзс = – 100 В, причому значення зменшилося до 24,3 ГПа. Однак для покриття, отриманого при Uзс = – 200 В, відпал призвів до незначного збільшення твердості до 30,8 ГПа, що свідчить про підвищену термічну стабільність і стійкість до розм'якшення. Отримані результати підкреслюють важливість параметрів осадження для налаштування характеристик багатошарових нітридних покриттів для високотемпературних і зносостійких застосувань.

Перелік посилань