Вплив шарів пасивації SiNx/SiO2 на розсіяне поле поверхні в кремнієвих пластинах n-типу

Автори B. Labdelli1 , A. Boucheham1 , L. Benharrat1 , A. Djelloul1 , N. Chahinez1, M. Alloun2, S.Y. Lamri2
Афіліація

1Centre de Recherche en Technologie des Semi-Conducteurs pour l’Energétique ‘CRTSE’, Alger, Algérie

2École Nationale Polytechnique Département de Métallurgie, 16200 Alger, Algeria

Е-mail boutaleb200574@yahoo.fr
Випуск Том 17, Рік 2025, Номер 1
Дати Одержано 03 грудня 2024; у відредагованій формі 12 лютого 2025; опубліковано online 27 лютого 2025
Цитування B. Labdelli, A. Boucheham, L. Benharrat, та ін., Ж. нано- електрон. фіз. 17 № 1, 01002 (2025)
DOI https://doi.org/10.21272/jnep.17(1).01002
PACS Number(s) 82.65. + r, 81.15.Gh, 61.72.Cc, 61.72.uf, 07.60. – j
Ключові слова SiNx/SiO2, PECVD (7) , RTP, Монокристалічний кремній n-типу, QSSPC.
Анотація

У роботі представлені результати досліджень властивостей пасивації пакету плівок нітриду кремнію (SiNx) поверх діоксиду кремнію (SiO2) на кремнієвих пластинах n-типу з метою вивчення його впливу на поле передньої поверхні (FSF) у сонячних елементах PERT. Кремнієві пластини пройшли ідентичний процес термічного окислення протягом 30 хвилин при 850 °C (10 нм) в печі для окислення. Матеріали SiNx були нанесені за допомогою плазмово-посиленого хімічного осадження з парової фази (PECVD) на кремнієву підкладку n-типу, нітрид кремнію, де регулювали співвідношення газу-попередника (R = NH3/SiN4), потім використовували швидку термічну обробку (RTP) спільного спалювання при температурі 750 °C протягом 60 с. Де дифузії фосфору проводяться з використанням POCl3 як джерела допанту при температурі 820 °C протягом 15 хвилин у трубчастій печі. Показник відбиття показує, що подвійні шари плівок SiN/SiO2 у сонячних елементах забезпечують ефект антивідблиску, а хороша пасивація випромінювачів призводить до поліпшених електричних характеристик. Це було підтверджено за допомогою квазістаціонарної фотопровідності (QSSPC) Sinton WCT 120 із використанням n+/n/n+ симетричних зразків тривалості життя. Шари SiNx, нанесені на SiO2, демонструють ефективні характеристики пасивації об’єму та поверхні.

Перелік цитувань