Results (24):

Назва Fabrication of ZnxCd1–xSe Nanowires by cvd Process and Photoluminescence Studies
Автори R.P. Vijayalakshmi, G. Murali, D. Amaranatha Reddy, R. Venugopal
Випуск Том 3, Рік 2011, Номер 1, Part 1
Сторінки 0140 - 0145
Назва A study of the evolution of the silicon nanocrystallites in the amorphous silicon carbide under argon dilution of the source gases
Автори A. Kole, P. Chaudhuri
Випуск Том 3, Рік 2011, Номер 1, Part 1
Сторінки 0155 - 0161
Назва MOCVD of Cobalt Oxide Using Co-Actylacetonate as Precursor: Thin Film Deposition and Study of Physical Properties
Автори S.M. Jogade, P.S. Joshi, B.N. Jamadar, D.S. Sutrave
Випуск Том 3, Рік 2011, Номер 1, Part 1
Сторінки 0203 - 0211
Назва Field-Emission Study of Multi-Walled Carbon Nanotubes Grown on Si Substrate by Low Pressure Chemical Vapor Deposition
Автори J. Ali, A. Kumar, S. Husain, S. Parveen, M. Husain
Випуск Том 3, Рік 2011, Номер 1, Part 2
Сторінки 0358 - 0361
Назва Properties of Silicon Dioxide Films Prepared Using Silane and Oxygen Feeds by PE-CVD at low Power Plasma
Автори S.P. Gore, A.M. Funde, T.S. Salve, T.M. Bhave, S.R. Jadkar, S.V. Ghaisas
Випуск Том 3, Рік 2011, Номер 1, Part 2
Сторінки 0370 - 0375
Назва Effect of Number of Filaments on the Structure, Composition and Electrical Properties of µc-Si:h Layers Deposited Using HWCVD Technique
Автори S.K. Soni, R.O. Dusane
Випуск Том 3, Рік 2011, Номер 1, Part 3
Сторінки 0551 - 0557
Назва Inter-Electrode Separation Induced Amorphous-to-Nanocrystalline Transition of Hydrogenated Silicon Prepared by Capacitively Coupled RF PE-CVD Technique
Автори A.M. Funde, V.S. Waman, M.M. Kamble, M.R. Pramod, V.G. Sathe, S.W. Gosavi, S.R. Jadkar
Випуск Том 3, Рік 2011, Номер 1, Part 4
Сторінки 0651 - 0661
Назва Designing Single Chamber Hwcvd System for High Deposition Rate Device Quality A-Si:h Thin Films and Solar Cells
Автори N.A. Wadibhasme, S.K. Soni, Alka Kumbhar, Nagsen Meshram, R.O. Dusane
Випуск Том 3, Рік 2011, Номер 1, Part 5
Сторінки 0942 - 0946
Назва Porous Silicon & Titanium Dioxide Coatings Prepared by Atmospheric Pressure Plasma Jet Chemical Vapour Deposition Technique-A Novel Coating Technology for Photovoltaic Modules
Автори S. Bhatt, J. Pulpytel, F. Krcma, V. Mazankova, F. Arefi-Khonsari
Випуск Том 3, Рік 2011, Номер 1, Part 5
Сторінки 1021 - 1034
Назва Effective Passivation of C-Si by Intrinsic A-Si:h Layer for hit Solar Cells
Автори Shahaji More, R.O. Dusane
Випуск Том 3, Рік 2011, Номер 1, Part 5
Сторінки 1120 - 1126
Назва Synthesis and Photoluminescence Studies on Catalytically Grown Zn1–xMnxS Nanowires
Автори R.P. Vijayalakshmi, G. Murali, D. Amaranatha Reddy, R. Venugopal, B.K. Reddy
Випуск Том 3, Рік 2011, Номер 2
Сторінки 005 - 010
Назва Helium Induced Structural Disorder in Hydrogenated Nanocrystalline Silicon (nc-Si:H) Thin Films Prepared by HW-CVD Method
Автори Nabeel A. Bakr
Випуск Том 4, Рік 2012, Номер 3
Сторінки 03006-1 - 03006-7
Назва Field Emission Behaviour of the Single Wall Carbon Nanotubes Grown by Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD) System
Автори Avshish Kumar, Shama Parveen, Samina Husain, Javid Ali, Harsh, M. Husain
Випуск Том 5, Рік 2013, Номер 2
Сторінки 02012-1 - 02012-3
Назва Структурні, механічні і оптичні властивості плазмохімічних Si-C-N плівок
Автори А.О. Козак, В.І. Іващенко, О.К. Порада, Л.А. Іващенко, Т.В. Томіла
Випуск Том 6, Рік 2014, Номер 4
Сторінки 04047-1 - 04047-5
Назва Оптичні властивості плазмохімічних гідрогенізованих Si-C-N плівок
Автори А.О. Козак, В.І. Іващенко, О.К. Порада, Л.А. Іващенко, В.Я. Малахов, Т.В. Томіла
Випуск Том 7, Рік 2015, Номер 3
Сторінки 03040-1 - 03040-6
Назва Експрес метод аналізу морфологічних параметрів графенових покриттів на мідній підкладці
Автори О.В. Соболь, І.М. Колупаев, А.В. Мураховскій, В.С. Левіцкій, Т.С. Кольцова, М.В. Козлова, Т.В. Ларіонова, В.О. Соболь
Випуск Том 8, Рік 2016, Номер 4
Сторінки 04013-1 - 04013-5
Назва Фотолюмінісцентні властивості PECVD плівок на основі Si, C, N
Автори О.К. Порада, В.С. Манжара, А.О. Козак, В.І. Іващенко, Л.A. Іващенко
Випуск Том 9, Рік 2017, Номер 2
Сторінки 02022-1 - 02022-6
Назва Raman Study of CVD Graphene Irradiated by Swift Heavy Ions
Автори E.A. Kolesov, M.S. Tivanov, O.V. Korolik, P. Yu. Apel, V.A. Skuratov, A.M. Saad, I.V. Komissarov, A. Swic, P.V. Żukowski, T.N. Koltunowicz
Випуск Том 9, Рік 2017, Номер 3
Сторінки 03020-1 - 03020-4
Назва Формування квантових точок InAs в матриці GaAs у кінетичному режимі для CVD-методу
Автори С.К. Губа
Випуск Том 9, Рік 2017, Номер 3
Сторінки 03026-1 - 03026-4
Назва Performance of p-i-n Hydrogenated Amorphous Silicon Thin Film Solar Cells Device
Автори H. Yanuar, U. Lazuardi
Випуск Том 10, Рік 2018, Номер 2
Сторінки 02045-1 - 02045-3
Назва High Band Gap Nanocrystalline Tungsten Carbide (nc-WC) Thin Films Grown by Hot Wire Chemical Vapor Deposition (HW-CVD) Method
Автори Bharat Gabhale, Ashok Jadhawar, Ajinkya Bhorde, Shruthi Nair, Haribhau Borate, Ravindra Waykar, Rahul Aher, Priyanka Sharma, Amit Pawbake, Sandesh Jadkar
Випуск Том 10, Рік 2018, Номер 3
Сторінки 03001-1 - 03001-6
Назва Покращення електричних властивостей елементів Гретцеля шляхом заміщення шару барвника переходом CdS/ZnO
Автори M. Melouki, H.F. Mehnane, A. Djelloul, Y. Larbah, M. Adnane
Випуск Том 13, Рік 2021, Номер 4
Сторінки 04004-1 - 04004-5
Назва Сенсори вуглекислого газу на основі вуглецевих нанотрубок з каталізатором і без нього
Автори Intessar K. Abd, Ahmed M. Shano, Ebtisam K. Alwan
Випуск Том 14, Рік 2022, Номер 3
Сторінки 03024-1 - 03024-4
Назва Тонкі плівки на основі MWCNT, отримані методом CVD, та деякі їх застосування
Автори Intessar K. Abd, Ahmed M. Shano, Ziad T. Khodair
Випуск Том 14, Рік 2022, Номер 6
Сторінки 06002-1 - 06002-4