Асиметричність щільності розподілу об'ємного неcкомпенсованого заряду на кордоні металургійного p-n переходу

Автори А.С. Мазінов1,2, А.І. Шевченко1, М.О.Биков1
Приналежність

1 Таврійський національний університет ім. В.І. Вернадського, просп. Академіка Вернадського, 4, Сімферополь, Крим 95007, Україна

2 Кримський науковий центр НАН і МОН, просп. Академіка Вернадського, 2, Сімферополь, 95007, Україна

Е-mail
Випуск Том 4, Рік 2012, Номер 3
Дати Одержано 31.08.2012; опубліковано online 07.11.2012
Посилання А.С. Мазінов, А.І. Шевченко, М.О.Биков, Ж. Нано- Електрон. Фіз. 4 № 3, 03026 (2012)
DOI
PACS Number(s) 71.22._i, 71.23.An
Ключові слова Мілкозалягаючий p-n перехід, профіль легування кристала, коефіцієнт дифузії (3) , енергія активації дифузії, щільність розподілу заряду, нескомпенсований заряд p-n переходу.
Анотація У роботі розглянуто особливості формування мілкозалягаючого переходу і його розрахунку для створення фотогальванічного елемента на основі монокристалічного кремнію з фронтальним легованим бором. Показана неоднозначність розрахункових профілів перекомпенсуючої домішки, яка залежить від точності визначення констант дифузійних рівнянь.

Перелік посилань

English version of article