Автори | А.С. Мазінов1,2, А.І. Шевченко1, М.О.Биков1 |
Афіліація | 1 Таврійський національний університет ім. В.І. Вернадського, просп. Академіка Вернадського, 4, Сімферополь, Крим 95007, Україна 2 Кримський науковий центр НАН і МОН, просп. Академіка Вернадського, 2, Сімферополь, 95007, Україна |
Е-mail | |
Випуск | Том 4, Рік 2012, Номер 3 |
Дати | Одержано 31.08.2012; опубліковано online 07.11.2012 |
Цитування | А.С. Мазінов, А.І. Шевченко, М.О.Биков, Ж. Нано- Електрон. Фіз. 4 № 3, 03026 (2012) |
DOI | |
PACS Number(s) | 71.22._i, 71.23.An |
Ключові слова | Мілкозалягаючий p-n перехід, профіль легування кристала, коефіцієнт дифузії (4) , енергія активації дифузії, щільність розподілу заряду, нескомпенсований заряд p-n переходу. |
Анотація | У роботі розглянуто особливості формування мілкозалягаючого переходу і його розрахунку для створення фотогальванічного елемента на основі монокристалічного кремнію з фронтальним легованим бором. Показана неоднозначність розрахункових профілів перекомпенсуючої домішки, яка залежить від точності визначення констант дифузійних рівнянь. |
Перелік посилань English version of article |