Вивчення впливу високої температури на статичні характеристики 14 нм TG SOI N FinFET

Автори A. Lazzaz1, K. Bousbahi1,2, M. Ghamnia1
Приналежність

1Laboratoire des Sciences de la Matière Condensée (LSMC), Oran 1 University, Oran, Alegria

2ESGEE d’Oran, Oran, Algeria

Е-mail lazzaz.abdelaziz@gmail.com
Випуск Том 15, Рік 2023, Номер 2
Дати Одержано 25 січня 2023; у відредагованій формі 17 квітня 2023; опубліковано online 27 квітня 2023
Посилання A. Lazzaz, K. Bousbahi, M. Ghamnia, Ж. нано- електрон. фіз. 15 № 2, 02005 (2023)
DOI https://doi.org/10.21272/jnep.15(2).02005
PACS Number(s) 82.20.Xr, 85.30.Tv
Ключові слова CMOS (18) , Квантовий ефект (2) , Струм витоку (2) , FinFET (16) , Температурний ефект.
Анотація

     Постійне масштабування розмірів польових транзисторів метал-оксид-напівпровідник (MOSFET) описується законом Мура, що призводить до розробки складних технологій електронних компонентів. Через труднощі масштабування планарного CMOS-транзистора з надією на збереження ефективногокерування каналом, пристрої FinFET були представлені для подолання різних проблем, таких як збільшення струму витоку, зменшення струму ввімкнення та погіршення коефіцієнта продуктивності. Пристрої FinFET мають інші важливі переваги перед планарними транзисторами, такі як зменшення випадкових флуктуацій легування та підвищення порогової напруги. Група BSIM продовжує розробляти моделі для комплементарної технології метал-оксид-напівпровідник, представляючи компактні моделі, що залежать від геометрії пристрою та не залежать від матеріалу, що є важливим для проектування електроніки. У даній роботі був досліджений вплив зміни температури від 77 до 377 K на вхідні та вихідні характеристики TG SOI N FinFET 14 нм. Мета дослідження полягає в аналізі впливу температури на порогову напругу, струми увімкнення та вимкнення, підпорогове коливання, зниження бар’єру, викликане стоком, та струм витоку. Berkeley PTM (Predictive Technology Model) використовується в інструментах SPICE і TCAD Atlas. При підвищенні температури від 77 до 377 К спостерігається погіршення співвідношення продуктивності ION/IOFF.

Перелік посилань