Вплив дози імплантованих іонів дейтерію на мікроструктуру і наномеханічні властивості кремнію

Автори О.С. Купрін1 , С.М. Дуб2 , А.С. Ніколенко3, В.В. Стрельчук3 , O. Морозов2, Г.М. Толмачова1, О.O. Пудов1
Приналежність

1Національний науковий центр Харківський фізико-технічний інститут, Харків, Україна

2Інститут надтвердих матеріалів імені В.М. Бакуля НАН України, Київ, Україна

3Інститут фізики напівпровідників, Київ, Україна

Е-mail kuprin@kipt.kharkov.ua
Випуск Том 14, Рік 2022, Номер 1
Дати Одержано 12 квітня 2021; у відредагованій формі 22 лютого 2022; опубліковано online 28 лютого 2022
Посилання О.С. Купрін, С.М. Дуб, А.С. Ніколенко, та ін., Ж. нано- електрон. фіз. 14 № 1, 01001 (2022)
DOI https://doi.org/10.21272/jnep.14(1).01001
PACS Number(s) 61.80.Jh, 61.82.Rx, 81.07.Bc, 61.05.cp, 61.46.Hk, 62.25. – g
Ключові слова Кремній (82) , Імплантація (9) , Дейтерій, Раманівська спектроскопія (12) , Термічна десорбція, Наноіндентування (3) .
Анотація

Імплантація водню в кремній з подальшим відпалом (технологія Smart-Cut) застосовується для виготовлення мікроелектронних пристроїв. Покращені характеристики отриманих структур були досягнуті шляхом імплантації дейтерію замість водню. Метод наноіндентування широко використовується при вимірюванні твердості H та модуля пружності E матеріалів у нанорозмірному масштабі. Метою даної роботи є дослідження впливу дози імплантації іонів дейтерію на структуру та механічні властивості монокристалічного кремнію в нанорозмірному масштабі. Досліджено вплив доз імплантації іонів дейтерію в діапазоні від 2×1015 до 1×1018 D/см2 на структуру та механічні властивості монокристалу кремнію в наномасштабі. Зразки полірованого кремнію (111) імплантували при 293 К пучком іонів дейтерію з енергією 24 кеВ. Методом Раманівської спектроскопії було показано, що в залежності від дози імплантації в кремнії утворюються три структурні стани: дейтерій знаходиться у твердому розчині, суміш аморфної фази кремнію і твердого розчину, і тільки аморфний стан (a-Si:D). Термічна десорбційна спектроскопія показує, що при низьких дозах імплантації в спектрах термодесорбциї дейтерію спостерігається один пік з максимумом при Tmax ~ 575 К, а при дозах вище 5×1017 D/см2 з’являється низькотемпературний пік з максимумом при 500 К, що свідчить про утворення аморфного гідрогенізованого кремнію a-Si:D. Наноіндентування показало, що в режимі повної пластичності в контакті (> 100 нм), утворення твердого розчину дейтерію в кремнії спричиняє збільшення твердості поверхні зразка до 14,1 ГПа. Твердість поверхні різко зменшується до 3,6 ГПа з утворенням шару a-Si:D.

Перелік посилань