Автори | О. А. Шовкопляс1, О. В. Соболь2 |
Афіліація | 1 Сумський державний університет, вул. Римського-Корсакова, 2, 40007, Суми, Україна 2 Національний технічний університет “ХПІ”, вул. Фрунзе, 21, 61002, Харків, Україна |
Е-mail | sana@mss.sumdu.edu.ua |
Випуск | Том 6, Рік 2014, Номер 2 |
Дати | Одержано 10.04.2014, у відредагованій формі - 05.06.2014, опубліковано online - 20.06.2014 |
Цитування | О. А. Шовкопляс, О. В. Соболь, Ж. Нано- електрон. фіз. 6 № 2, 02024 (2014) |
DOI | |
PACS Number(s) | 81.07.Bc, 52.77.Dq, 61.05.cp, 64.60.My, 61.82.Rx |
Ключові слова | Іонно-плазмові покриття (2) , Відпал (33) , Опромінення (22) , Рентгеноструктурні дослідження (4) , Розділення складних профілів. |
Анотація | Визначені закономірності формування іонно-плазмових покриттів системи Ti-W-B і вплив постконденсаційної обробки на їх фазовий склад, структуру, субструктуру й напружений стан. Показано, що при малому вмісті Ti-складової (до 2 ат.%) формується двофазний стан із β-WB- та (Ti,W)B2-фаз. Відпал при температурі 1270 К спричиняє зростання зерен переважно β-WB-фази. При вмісті Ti більше 5 ат.% формується однофазний (Ti, W)B2-стан покриття. Структура і субструктурні характеристики таких покриттів стійкі до відпалів і опромінення протонами з енергією 200 кеВ до дози 6,5×10 17 см – 2. Вплив терморадіаційної дії позначається на зміні напружено-деформованого стану (релаксація деформації стиску). Спостережувані зміни пояснені виходячи з умов мінімізації вільної енергії системи. |
Перелік посилань |