Автори | А. Беддіаф1,2, М. Меджальді1, А. Ланані1, Д. Джамай3 |
Афіліація | 1Лабораторія SATIT, Університет Аббаса Лагрура, Хенчела, Алжир 2Лабораторія MoDERNa, Університет Константіна 1, Route d’Ain El Bey, 25000 Константіна, Алжир 3Лабораторія ISMA, Університет Аббаса Лагрура, Хенчела, Алжир |
Е-mail | beddiafaziz@yahoo.fr |
Випуск | Том 17, Рік 2025, Номер 3 |
Дати | Одержано 15 березня 2025; у відредагованій формі 20 червня 2025; опубліковано online 27 червня 2025 |
Цитування | А. Беддіаф, М. Меджальді, А. Ланані, Д. Джамай, Ж. нано- електрон. фіз. 17 № 3, 03006 (2025) |
DOI | https://doi.org/10.21272/jnep.17(3).03006 |
PACS Number(s) | 78.20. − e, 82.33.Ya |
Ключові слова | Еліпсометрія (8) , Оксинітрид кремнію, Показник заломлення (12) , Модель Максвелла–Гарнетта. |
Анотація | У даній роботі досліджено геометричні та оптичні властивості тонких плівок оксинітриду кремнію (SiOxNy), отриманих методом низькотемпературного хімічного осадження з газової фази при зниженому тиску (LPCVD) із використанням прекурсорів SiH2Cl2, N2O та NH3 при температурі 850 °C. Для аналізу використано спектроскопічну еліпсометрію. Для моделювання було застосовано модель Максвелла–Гарнетта (MG), яка розглядає SiOxNy як гетерогенне середовище, що складається з фаз оксиду кремнію (SiO2) та нітриду кремнію (Si3N4). Основні результати: Товщина плівки залежить від швидкості подачі аміаку (NH3) та співвідношення R NH3 / N2O – з її збільшенням товщина SiOxNy зростає. Показник заломлення при довжині хвилі 830 нм зростає зі збільшенням NH3 та знижується зі зростанням N2O, змінюючись у діапазоні від 1.458 до 1.597. Об’ємна частка компонентів (SiO2 та Si3N4) була розрахована залежно від швидкостей подачі газів, що дозволяє кількісно описати зміну оптичних властивостей плівки. Таким чином, наведені результати дозволяють визначити оптимальні параметри осадження, виходячи з цільового застосування SiOxNy-покриттів в електроніці та фотоніці. |
Перелік посилань English version of article |