Характеристика та оптимізація Si0.75Ge0.25-FinFET на основі робочої температури та довжини затвора

Автори Yousif Atalla1, Mohamad Hafiz Mamat1, Yasir Hashim2
Афіліація

1NANO-ElecTronic Centre (NET), School of Electrical Engineering, College of Engineering, Universiti Teknologi MARA, 40450, Shah Alam, Selangor, Malaysia

2Department of Electrical Engineering and Computer Science, A‘Sharqiyah University, Ibra, Oman

Е-mail yasir.hashim@ieee.org
Випуск Том 17, Рік 2025, Номер 2
Дати Одержано 14 лютого 2025; у відредагованій формі 10 квітня 2025; опубліковано online 28 квітня 2025
Цитування Yousif Atalla, Mohamad Hafiz Mamat, Yasir Hashim, Ж. нано- електрон. фіз. 17 № 2, 02011 (2025)
DOI https://doi.org/10.21272/jnep.17(2).02011
PACS Number(s) 62.23.Hj, 87.85.Dh
Ключові слова SiGe-FinFET, Температура (41) , Чутливість (28) , MuGFET (3) , Наносенсор (3) .
Анотація

Це дослідження зосереджено на впливі температури на чутливість МОН-транзисторів та FinFET-пристроїв з використанням гетероструктури Si0.75Ge0.25 шляхом аналізу вольт-амперних (ВА) характеристик за різних теплових умов. Метою є дослідження зв'язку мод у МОН-транзисторах шляхом аналізу продуктивності FinFET-транзисторів за різних теплових умов та довжин затворів (Lg = 10, 20 та 30 нанометрів). Результати показали, що FinFET-транзистори досягають найвищої теплової чутливості, коли найбільша зміна струму (ΔI) відбувається в діапазоні напруги від 0 до 1 вольта (VDD), що відображає високу ефективність реагування на теплові зміни. Також було виявлено, що зменшення довжини каналу призводить до значного збільшення теплової чутливості, особливо в діапазоні довжин від 10 до 20нанометрів. Оптимальна довжина каналу була визначена на рівні 10 нанометрів для досягнення чудових теплових характеристик, що служить орієнтиром для проектування FinFET-транзисторів, які потребують високої теплової ефективності та стабільності в різних застосуваннях. Дослідження включало широкий діапазон температур, що забезпечило глибше розуміння конструкції.

Перелік посилань