Автори | P. Saikia, A.K. Raibaruah , K.C.D. Sarma |
Афіліація |
Central Institute of Technology Kokrajhar, Department of Instrumentation Engineering, 783370, India |
Е-mail | ak.raibaruah@cit.ac.in |
Випуск | Том 16, Рік 2024, Номер 5 |
Дати | Одержано 12 червня 2024; у відредагованій формі 20 жовтня 2024; опубліковано online 30 жовтня 2024 |
Цитування | P. Saikia, A.K. Raibaruah, K.C.D. Sarma, Ж. нано- електрон. фіз. 16 № 5, 05016 (2024) |
DOI | https://doi.org/10.21272/jnep.16(5).05016 |
PACS Number(s) | 85.30.Tv |
Ключові слова | Безперехідний (7) , Ефект поля, DGJLFET, Легування (29) , Порогова напруга (5) , Підпорогове коливання (7) . |
Анотація |
Стаття стосується дослідженню зміни концентрації домішки на безперехідному польовому транзисторі з подвійним затвором. Концентрація легування для пристрою варіювалася від 1010/см3 до 1019/см3, а їх характеристики передачі та вихідні характеристики були досліджені для напруг секції стоку з 0,1 В, 0,5 В та 1 В. При напрузі стоку 1 В з рівнем легування 1019 см – 3 отримано струм стоку 1,7 мА. Крім того, досліджуються різні електричні параметри, такі як струм, співвідношення ION/IOFF, підпорогове коливання, порогові напруги. При 1019 см – 3 і потенціалі стоку 1 В струм в корпусі становить 1,9 мА. З іншого боку, підпорогове коливання, отримане при 1019 см – 3 з потенціалом витоку 1 В, становить 79 мВ/декаду. Симуляція виконується за допомогою симулятора Cogenda Visual TCAD. Збільшуючи концентрацію легування, можна отримати кращий контроль над струмом стоку. Краще значення струму можна досягти при вищій варіації легування. |
Перелік цитувань |