| Автори | G.A. Kushiev , B.O. Isakov , U.X. Mukhammadjonov |
| Афіліація |
Tashkent State Technical University, 100095 Tashkent, Uzbekistan |
| Е-mail | giyosiddinabdivaxobogli@gmail.com |
| Випуск | Том 16, Рік 2024, Номер 3 |
| Дати | Одержано 15 квітня 2024; у відредагованій формі 14 червня 2024; опубліковано online 28 червня 2024 |
| Цитування | G.A. Kushiev, B.O. Isakov, U.X. Mukhammadjonov, Ж. нано- електрон. фіз. 16 № 3, 03003 (2024) |
| DOI | https://doi.org/10.21272/jnep.16(3).03003 |
| PACS Number(s) | 61.72.uf, 81.05.Cy |
| Ключові слова | Дифузія (36) , Германій (9) , Кремній (98) , Марганець (3) , Гетероструктури (10) , Елементний аналіз (2) . |
| Анотація |
У даній роботі визначено технологічні параметри та процеси для отримання сплавів GexSi1 – x дифузійним методом шляхом введення атомів германію в монокристалічний кремній. Результати досліджень свідчать про те, що параметри отриманих сплавів GexSi1 – x відрізняються від параметрів вихідного кремнію, зокрема змінюються значення енергії забороненої зони кремнію. Елементний аналіз поверхонь зразків виявив концентрацію кремнію (в атомних відсотках) приблизно ~ 70,66 % і германію ~ 29,36 %. Для виготовлення та дослідження параметрів кремнієвих сонячних елементів з гетероструктурами GexSi1 – x–Si використовувалися зразки, отримані двома різними методами. У першому методі p-n-перехід формувався введенням домішкових атомів фосфору у вихідний кремній p- тип марки кремнію. У другому методі p-n-перехід був утворений шляхом дифузії бору у вихідний кремній марки SEPH (кремнієвий електронний тип, легуючий матеріал фосфору). В обох випадках глибина p-n-переходу становила від 0,5 до 6 мкм. Також було показано, що бінарні сполуки GexSi1 – x є новим матеріалом для сучасної електроніки; показана можливість формування на їх основі нових електронних пристроїв та функціональних високоефективних сонятних елементів.Kлючові слова: Дифузія, Германій, Кремній, Марганець, Гетероструктури, Елементний аналіз. |
|
Перелік посилань |