Зародкоутворення золота в електричному полі на поверхні темплату

Автори М.Ю. Барабаш1, Е.Л. Мартинчук1, Д.О. Гринько2, Р.В. Литвин3
Приналежність

1 Технічний центр НАН України, вул. Покровська, 13, 04070 Київ-070, Україна

2 Інститут фізики напівпровідників НАН України, просп. Науки, 41, 03650, ГСП, Київ-39, Україна

3 Інститут проблем матеріалознавства ім. І.М. Францевича НАН України, вул. Кржижановського 3, 03680 Київ-142, Україна

Е-mail bashik_77@ukr.net
Випуск Том 6, Рік 2014, Номер 1
Дати Одержано 13.01.2014, опубліковано online 06.04.2014
Посилання М.Ю. Барабаш, Е.Л. Мартинчук, Д.О. Гринько, Р.В. Литвин, Ж. Нано- електрон. фіз. 6 № 1, 01029 (2014)
DOI
PACS Number(s) 36.20. – r, 42.70. – a, 42.70.Jk
Ключові слова Електростатичний темплат, Нанокластер (7) , Електричне поле (11) , Нанокомпозит (35) .
Анотація В роботі проведено порівняльне дослідження процесів фазоутворення золотих нанокластерів в матриці полі-N-вінілкарбазолу (PVCа) при газофазній співконденсації в локальних електричних полях поблизу поверхні темплату та на поверхні нейтральних підкладинок. TEM дослідження дозволили безпосередньо спостерігати золоті критичні зародки в матриці PVCа і визначити їх розміри. Експериментально доведено, що розмір критичного зародку Au при газофазній співконденсації із сполуками карбазолу становить 1,9 нм, тоді як в неоднорідному електричному полі темплату він зменшується до 1,2 нм. Моделювання впливу поляризаційної складової на зародкоутворення Au в межах термодинамічного підходу для електрично заряджених і нейтральних нанокластерів золота показало можливість існування вимірених змін розміру критичного зародку в полі 108-1010 В/м.

Перелік посилань

English version of article