Моделювання за допомогою методу еквівалентних схем перехідних процесів при збудженні поверхневої фото-ЕРС в тонких плівках ZnO

Автори А. Надточій1 , А. Подолян1 , О. Коротченков1 , О. Оберемок2, О. Косуля2, Б. Романюк2
Приналежність

1Фізичний факультет, Київський національний університет імені Тараса Шевченка, 01601 Київ, Україна

2Інститут Фізики напівпровідників ім. В. Є. Лашкарьова НАН України, 03028 Київ, Україна

Е-mail nadtku@univ.kiev.ua
Випуск Том 16, Рік 2024, Номер 2
Дати Одержано 22 січня 2024; у відредагованій формі 18 квітня 2024; опубліковано online 29 квітня 2024
Посилання А. Надточій, А. Подолян, О. Коротченков, та ін., Ж. нано- електрон. фіз. 16 № 2, 02023 (2024)
DOI https://doi.org/10.21272/jnep.16(2).02023
PACS Number(s) 72.20.Jv, 73.50.Pz
Ключові слова Поверхнева фото-ЕРС, Оксид цинку (18) , Еквівалентні схеми.
Анотація

Плівки ZnO були отримані нанесенням оксиду цинку на підкладку кремнію p-типу за допомогою магнетронного розпилення, після чого у плівку були імплантовані іони Nd+ з подальшим відпалом. Динаміка фотозбуджених носіїв досліджувалась за допомогою вимірювання поверхневої фото-ЕРС Перехідний процес кінетики фото-ЕРС після вимкнення джерела світла часто має вигляд немонотонного та/або знакозмінного загасання. Моделювання таких складних перехідних процесів проводилося за допомогою методу еквівалентних схем. Були розроблені еквівалентні схеми, що містять у собі декілька елементів опору (R), ємності (C) та індуктивності (L). За допомогою аналізу імпедансу в часовій області була також розроблена проста процедура підгонки, яка дозволяє точно відтворювати виміряний перехідний процес фото-ЕРС. Показано можливий взаємозв'язок між цими елементами RCL і фізичною картиною явищ переносу заряду в областях розділу структури. Такий підхід може бути корисним для використання при моделюванні характеристик інтерфейсів у напівпровідникових структурах і пристроях.

Перелік посилань