Назва |
Pt-Ti/ALD-Al2O3/p-Si MOS Capacitors for Future ULSI Technology |
Автори |
Ashok M. Mahajan, Anil G. Khairnar, Brian J. Thibeault |
Випуск |
Том 3, Рік 2011, Номер 1, Part 4 |
Сторінки |
0647 - 0650 |
Назва |
Role of Interface Charges on High-k Based Poly-Si and Metal Gate Nano-Scale MOSFETs |
Автори |
N. Shashank, Vikram Singh, W.R. Taube, R.K. Nahar |
Випуск |
Том 3, Рік 2011, Номер 1, Part 5 |
Сторінки |
0937 - 0941 |
Назва |
Analog and RF Performance Evaluation of Dual Metal Double Gate High-k Stack (DMDG-HKS) MOSFETs |
Автори |
Santosh K. Gupta, S. Baishya |
Випуск |
Том 5, Рік 2013, Номер 3 |
Сторінки |
03008-1 - 03008-8 |
Назва |
Synthesis of Cerium Dioxide High-k Thin Films as a Gate Dielectric in MOS Capacitor |
Автори |
Anil G. Khairnar, Y.S. Mhaisagar, A.M. Mahajan |
Випуск |
Том 5, Рік 2013, Номер 3 |
Сторінки |
03002-1 - 03002-3 |
Назва |
Effects of High-k Dielectrics with Metal Gate for Electrical Characteristics of SOI TRI-GATE FinFET Transistor |
Автори |
Fatima Zohra Rahou, A.Guen Bouazza, B. Bouazza |
Випуск |
Том 8, Рік 2016, Номер 4 |
Сторінки |
04037-1 - 04037-4 |
Назва |
Вплив high-K діелектричного матеріалу як буфера на аналогові та радіочастотні характеристики GS-DG-FinFET |
Автори |
A. Pattnaik, Sruti S. Singh, S.K. Mohapatra |
Випуск |
Том 11, Рік 2019, Номер 6 |
Сторінки |
06028-1 - 06028-7 |
Назва |
Числове моделювання параметрів FinFET транзисторів |
Автори |
І.П. Бурик, А.О. Головня, М.М. Іващенко, Л.В. Однодворець |
Випуск |
Том 12, Рік 2020, Номер 3 |
Сторінки |
03005-1 - 03005-4 |
Назва |
Вплив high-k діелектричних матеріалів на короткоканальні ефекти в тризатворних SOI FinFETs |
Автори |
Zohmingmawia Renthlei, Swagat Nanda, Rudra Sankar Dhar |
Випуск |
Том 13, Рік 2021, Номер 5 |
Сторінки |
05013-1 - 05013-6 |
Назва |
Моделювання та імітація польового транзистора MOSFET (з high-k діелектриком) з використанням генетичних алгоритмів |
Автори |
Abdelkrim Mostefai, Smail Berrah, Hamza Abid |
Випуск |
Том 13, Рік 2021, Номер 6 |
Сторінки |
06004-1 - 06004-5 |
Назва |
Аналіз покращень струмів витоку з багатошаровим затвором high-k/метал у 10 нм напруженому каналі HOI FinFET |
Автори |
Payal Kumari, Swagat Nanda, Priyanka Saha, Rudra Sankar Dhar |
Випуск |
Том 14, Рік 2022, Номер 2 |
Сторінки |
02004-1 - 02004-4 |