Назва | Effects of High-k Dielectrics with Metal Gate for Electrical Characteristics of SOI TRI-GATE FinFET Transistor | |
Автори | Fatima Zohra Rahou, A.Guen Bouazza, B. Bouazza | |
Випуск | Том 8, Рік 2016, Номер 4 | |
Сторінки | 04037-1 - 04037-4 |
Назва | Аналіз покращень струмів витоку з багатошаровим затвором high-k/метал у 10 нм напруженому каналі HOI FinFET | |
Автори | Payal Kumari, Swagat Nanda, Priyanka Saha, Rudra Sankar Dhar | |
Випуск | Том 14, Рік 2022, Номер 2 | |
Сторінки | 02004-1 - 02004-4 |