Назва | Вплив обробки у водневій плазмі тліючого розряду на шари оксиду цинку, виготовлені імпульсним електрохімічним осадженням і методом SILAR | |
Автори | Н.П. Клочко, К.С. Клєпікова, С.І. Петрушенко, А.В. Нікітін, В.Р. Копач, І.В. Хрипунова, Д.О. Жадан, С.В. Дукаров, В.М. Любов, А.Л. Хрипунова | |
Випуск | Том 11, Рік 2019, Номер 5 | |
Сторінки | 05002-1 - 05002-7 |