Технологічні особливості виготовлення реальних контактних систем для приладів наносистемної техніки

Автори А.О. Ніконова , O.Ю. Небеснюк , З.A. Ніконова
Приналежність

Інженерний навчально-науковий інститут імені Ю.М. Потебні Запорізького національного університету, пр. Соборний, 226, 69006 Запоріжжя, Україна

Е-mail nk_alina@ukr.net
Випуск Том 14, Рік 2022, Номер 5
Дати Одержано 10 серпня 2022; у відредагованій формі 22 жовтня 2022; опубліковано online 28 жовтня 2022
Посилання А.О. Ніконова, O.Ю. Небеснюк, З.A. Ніконова, Ж. нано- електрон. фіз. 14 № 5, 05014 (2022)
DOI https://doi.org/10.21272/jnep.14(5).05014
PACS Number(s) 85.30. – z,72.40. + w
Ключові слова Технологія (23) , Контактні системи (2) , Фотоелектричні перетворювачі (6) , Кремнієві структури (2) , Гетеропереходи (5) , Параметри (40) , Характеристики (50) .
Анотація

У статті розглянуті шляхи підвищення ефективності фотоелектричних перетворювачів за рахунок застосування гетероструктур SnO2 | Zn2O3 – SiOx – nSi – n+Si і опрацювання технології виробництва контактних систем. Емпірично досліджено фізичні процеси, що відбуваються в гетероструктурах, проведено аналіз методологій та режимів їх отримання. Розглянуто значні переваги фотоелектричних перетворювачів на основі представлених структур в порівнянні із закордонними аналогами. Авторами запропонована альтернативна технологія створення контактних систем до гетероструктур і експериментально доведено, що відпалені контактні системи мають переваги, в першу чергу, з точки зору зниження числа технологічних операцій і до цього часу являються актуальними. Використання такої композиції дозволило знизити температуру відпалу, що привело до покращення морфології отриманих контактних систем у порівнянні з традиційними. Доведено, що застосування таких контактних систем дозволить підвищити ефективність фотоелектричних приладів за рахунок простоти технологічного процесу і дешевих матеріалів, що приведе до зниження собівартості виробу.

Перелік посилань