Контрольоване поверхневою кінетикою визрівання Оствальда пласких включень на межі зерен

Автори О.В. Коропов
Приналежність

Інститут прикладної фізики НАН України, вул. Петропавлівська, 58, 40000 Суми, Україна

Е-mail ipfmail@ipfcentr.sumy.ua
Випуск Том 6, Рік 2014, Номер 1
Дати Одержано 09.04.2013, у відредагованій формі - 22.11.2013, опубліковано online - 06.04.2013
Посилання О.В. Коропов, Ж. Нано- електрон. фіз. 6 № 1, 01025 (2014)
DOI
PACS Number(s) 61.72. Mm, 61.72.Qq, 64.60.Qb, 66.30. – h, 68.35.Rh, 81.30. – t
Ключові слова Визрівання Оствальда, Коалесценція, Зародки, Включення другої фази, Атоми домішки, Дифузія (32) , Поверхнева кінетика, Критичний радіус, Пересичення (6) , Функція розподілу включень за розмірами, Густина включень, Коефіцієнт заповнення (2) .
Анотація Здійснено аналітичний аналіз визрівання Оствальда (коалесценції) пласких включень другої фази на межі зерен для випадку, коли ріст включень контролюється поверхневою кінетикою. Знайдені асимптотичні характеристики процесу визрівання Оствальда.

Перелік посилань

English version of article