Назва | Effects of Interfacial Charges on Doped and Undoped HfOx Stack Layer with Tin Metal Gate Electrode for Nano-Scaled CMOS Generation | |
Автори | S. Chatterjee, Y. Kuo | |
Випуск | Том 3, Рік 2011, Номер 1, Part 1 | |
Сторінки | 0162 - 0169 |
Назва | Fabrication and Excellent Dielectric Performance of Exfoliated Graphite Sheets | |
Автори | Girish M. Joshi, Kalim Deshmukh, P.K. Jain | |
Випуск | Том 8, Рік 2016, Номер 1 | |
Сторінки | 01022-1 - 01022-3 |